CMDシリーズはSiH4やTEOSを用いたa-Si膜、シリコン酸化膜、窒化膜成膜用枚葉式CVD装置です。
CMD-450BHT | CMD-650HT | CMD-950 | CMD-1500 | CMD-1800 | ||
基板サイズ(mm) | 400 × 500 × t0.7 | 600 × 720 × t0.7 | 730 × 920 × t0.7〜0.5 | 1300 × 1500 × t0.7〜0.4 | 1500 × 1800 × t0.7〜0.4 | |
部屋構成 | 1)仕込取出室 | 2室 | ||||
部屋構成 | 2)加熱室 | 1室 | ||||
3)反応室 | 4室(アニール室がある場合3室) | 5室(アニール室がある場合4室) | ||||
4)搬送室 | 1室(7角形) | 1室(8角形) | 1室(7角形) | |||
5)真空排気系 ・仕込取出室 ・反応室 |
ロータリー+メカブドライ+メカブ | ドライ+メカブ | ||||
6)基板移載機 | オプション | |||||
生産量 | 65秒/枚 (当社標準条件 SiN 300nm単層) |
75秒/枚 (当社標準条件 SiN 300nm単層) |
加熱室無 : 65秒/枚 加熱室有 : 90秒/枚 (当社標準条件 SiN 300nm単層) |
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