濺射裝置
Model: ENTRON-EXX
這是一套多腔體式室濺鍍系統，支援多種設備的生產，包括尖端半導體邏輯、記憶體（DRAM、NAND、下一代非揮發性記憶體）、封裝等。透過組合各種製程模組（濺鍍、預先清潔、加熱、冷卻）並增強資料收集和分析能力，我們為客戶提供最佳的開發和生產環境。
特性
- 通過提供兩種平臺 (單臺和串聯*)，您可以根據您的工廠空間有效地佈置設備，從而最大限度地提高單位空間的生產效率
- 可快速添加和更換模組的設計可靈活地滿足不斷變化的需求
- 多達12個模塊(濺射、預清潔、加熱和冷卻)
- 與先前的型號相比，它具有更高的數據收集和分析性能，即使在日益複雜的半導體製造現場也能即時處理大量資料，有助於提高良率、預防性維護和提高工作效率。
※單層設計簡單、節省空間，並帶有一個傳送室 (芯) 。串聯將兩個傳送室 (芯) 串聯放置，適用於需要更高工作效率的復雜流程。