PE-CVD裝置
Model： CMD
這是使用SiH4、TEOS 等形成 a-Si 膜、氧化矽薄膜和用於氮化膜沉積的多腔體式PE-CVD 系統。
特性
- 適用於高溫工藝的高可靠性搬運係統
- 實現長期穩定的沉積速率
- 退火室耐高溫（最高550℃），溫度分佈良好
用途
- 用於高精度顯示器的TFT
- 觸控板
規格
| Model | G4.5 | G5.5 | G6 | |
| CMD-950 | CMD-1500HT | CMD-1800HT | ||
| 基板尺寸（毫米） | 730 × 920 | 1300 × 1500 | 1500 × 1850 | |
| 房間配置 | 1) 進料室/出料室 | 2室 | 1間 (1艘船2段類型) | |
| 2) 加熱室 | 1室 | |||
| 3) 搬運室 | 1室 | |||
| 4) 反應室 | 最多5間 (設置加熱室時為4間) |
最多6間 (設置加熱室時為5間) |
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| 真空排氣係統 | 幹泵+機械助力泵 | |||
| 基板傳送系統 | 真空機械人 (兩級臂) | |||