材料
FPD制造設備專用
FPD制造設備專用
濺鍍靶材
我們為日益多樣化且規模更大的FPD（平板顯示器）市場提供穩定的高品質材料供應。
・確保全球物資供應
・大型靶材的品質管理設施及系統
（不僅支援G8代，也支援超大玻璃基板）
·與內部實驗室合作，為您的製程提供最佳材料
特性
- 適用於所有領域的濺射目標，包括TFT, OLED (LTPS:低溫多晶硅) 和觸摸屏
- 通過導入大型超聲波探傷裝置，進行細衹的材料中的缺陷檢查和接合檢查，實現了濺射時電弧發生量的減小化，提供了高品質的靶材
- 我們在亞洲國家的客戶附近安裝了可容納更大玻璃基板鍵合設備和沉積膜設備，提供完整的靶材供應系統和高可靠性的金屬鍵合技術。
- 粒子繁殖抑制的濺射目標
- 金屬組成調整帶來的高均勻性
低電阻Cu佈線工藝用Cu-Mg-Al類合金
- 低電阻佈線製程中可沉積膜的靶材（純Cu膜的氧化抑制阻隔層採用Cu-Mg-Al合金的層狀結構）
- 由於採用與佈線層相同的銅類材料，因此利用濕法蝕刻易於加工(不使用過水係統和氟酸係統的蝕刻液。可進行 (1液) 加工)
用於FPD的濺鍍靶材材料
| 靶材 | Purity |
| Ti | 4N5 |
| Cu及Cu合金 | 4N |
| Ag及Ag合金 | 4N |
| Si & SiO2 | 4N |
| Mo | 3N5 |