複合式製程設備

Model：LX-200

此沉積膜系統可進行二次電池的鋰沉積和各種材料的濺鍍。它可用於開發現場。

特性

可在鋰氣相沉積前後原位濺射
節省空間的設計
可依沉積膜材料選擇直流或射頻電源
可在200毫米見方的基板上沉積膜

用途

二次電池材料開發

規格

Model		LX-200E	LX-200S	LX-200ES
基板尺寸		Max 200mm□
沉積膜區域		Max 180mm□
設備配置	1)進料室/出料室	1室	1室	1室
	2)搬運室	1室	1室	1室
	3)蒸鍍室(坩堝，放入)	1室	-	1室
	4）濺鍍室（向上沉積，最多4個陰極）	-	1室	1室

產品介紹