擴散爐
Model： H83 / H84
此擴散爐擁有超過30年的經驗，可靠性極高，可用於200mm矽片的擴散、熱氧化、退火等熱處理。
特性
- 用於矽片擴散、熱氧化和退火工藝的水平爐
- 一臺設備可以選擇不同的製程
- 3段、4段構成，實現了節省空間
- 五個區域加熱器均可獨立控制，可實現溫度均勻和穩定的溫度控制。
- 配備內部控制系統，操作簡單可靠。
- H83-125、H84-125標準配備了小艇升降機，便於上鋪裝載
- 熱解氧化、濕式氧化、乾式氧化、三氯氧磷（POCl 3)和三溴化硼(BBr 3)可用於磷擴散、硼擴散、退火等製程。
用途
- 矽片擴散、熱氧化與退火
規格
| Model | H83-50 | H83-125 | H84-125 |
| 製程 | 氧化、擴散、退火 | ||
| 晶片直徑 (mm) | ～ 200（8 inch） | ||
| 段數 | 3 | 3 | 4 |
| 產品晶片數 (片) | 50 | 125 | 125 |
| 加熱區 | 5 | ||
| 加熱器材料 | Fe-Cr-Al | ||
| 工作溫度 (°C) | 600～1200 | ||
| 均熱長度 (mm) | 370 mm | 800 mm | 800 mm |
| 溫度均勻（℃） | ±1.0 °C | ||