스퍼터링 장치
Model：ENTRON-EX W300
최첨단 반도체 로직, 메모리(DRAM, NAND, 차세대 비휘발성 메모리), 패키징 등 다품종의 디바이스 생산에 대응한 멀티 챔버식 챔버식 스퍼터링 장치입니다. 다양한 공정 모듈(스퍼터링, 프리클린, 가열, 냉각)의 조합으로 고객의 요구에 부응합니다.
Model: ENTRON-EXX로 이행 전의 기존 모델입니다.
특징
- 개량을 더하면서 양산성, 공간 효율, 안정성을 추구해, 많은 양산 공장에서 인정되고 있는 롱셀러 모델
- 최대 10 프로세스(스퍼터링, 프리클린, 가열, 냉각) 탑재 가능
- 당사제 신형 반송 로봇을 탑재해, 메카니컬 스루풋 100wph 이상을 실현
- 전용 프로세스 또는 미니 팹에 최적인 싱글 플랫폼과 메가팹 대응의 탠덤 플랫폼을 준비해, 고객의 생산 계획에 유연하게 대응
- 장비의 작동 상태를 모니터링하고 관리하는 EES 시스템 탑재
용도
- 반도체 (로직, DRAM, NAND, NVM)
메탈 배선, 재배선층(RDL) 형성·보호 마스크 형성·전기 접속 형성· 기능막 형성