PE-CVD 장비
Model： CMD
SiH4 나 TEOS 등을 이용한 a-Si막, 실리콘 산화막, 질화막 성막용 멀티 챔버식 PE-CVD 장치입니다.
특징
- 고온 공정에 대응하는 고신뢰성 반송 시스템
- 장기간에 걸쳐 안정적인 성막 속도 실현
- 고온 대응(Max 550℃)&양온도 분포의 어닐실
용도
- 고화질 디스플레이용 TFT
- 터치 센서 패널
사양
| Model | G4.5 | G5.5 | G6 | |
| CMD-950 | CMD-1500HT | CMD-1800HT | ||
| 기판 사이즈(mm) | 730 × 920 | 1300 × 1500 | 1500 × 1850 | |
| 방 구성 Chamber구성 | 1) 구매/취출실 | 2실 | 1실(1보트 2단 타입) | |
| 2) 가열실 | 1실 | |||
| 3) 반송실 | 1실 | |||
| 4) 반응실 | 최대 5실 (가열실 설치의 경우 4실) |
최대 6실 (가열실 설치의 경우 5실) |
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| 진공 배기 시스템 | 건식 펌프 + 기계식 부스터 펌프 | |||
| 기판 이송 시스템 | 진공 로봇 (2단 암) | |||