イオン注入装置
SiC用高温イオン注入装置IH-860PSIC
高温ESCを搭載したSiC量産用高エネルギーイオン注入装置です。
特長
- 自動連続高温処理注入が可能
- 1価イオンで350keV、2価イオンで700keVまでの注入が可能
（オプションで1価イオンで430keV、2価イオンで860keVまで対応） - デュアルエンドステーションにて高スループットを実現
（A系4"高温ESC/B系3"高温ESC、A系6"高温ESC/B系6"常温ESC等、お客様の希望に合わせた仕様構築が可能） - チェーン注入可能なため、オペレータの負荷軽減
- コンパクト設計
- 試作から量産まで幅広く対応可能
用途
- SiC向けイオン注入装置
