IEEE ECTC2024にて最新チップレット集積向けプラズマエッチング技術について発表します|ニュース|アルバック
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2024.04.22
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IEEE ECTC2024にて最新チップレット集積向けプラズマエッチング技術について発表します

株式会社アルバックは、最新チップレット集積向けプラズマエッチング技術について、世界最大規模の半導体実装国際学会2024 IEEE 74th Electronic Components and Technology Conference (ECTC 2024)2件発表します。

開催期間 2024年5月28日(火) ~ 5月31日(金) (MST)
開催会場 Gaylord Rockies Resort & Convention Center, Denver, Colorado, USA
発表日時 2024年5月30日(木) 10:00~12:00 (MST)
セッション名 Session 39 "Interactive Presentations 3"
発表タイトル

"A novel plasma etching technology of RIE-lag free TSV and dicing processes for 3D chiplets interconnect"

"Through dielectric via etching in magnetic neutral loop discharge plasma for 3D chiplets interconnect."

関連外部サイト

IEEE ECTCについて(英語サイト)

https://www.ectc.net/

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