干法蚀刻设备
Model：uGmni-200E
这是一种经济高效且可扩展的干法蚀刻设备可适应单室到多室配置。
特性
- 配备“星形电极”，用于防止RF输入窗口中的储存物体附着。具有加热功能提高再现性和稳定性
- ISM-duo（可选）可实现统一控制（取决于专用内外周分离型天线的RF分配率）
- 可选处理室，支持本公司2倍的气体流量
- 还可选择工艺室的高温加热
- 可以安装额外的蚀刻室和减压室
- 灰化室可选配加热台上的微波水等离子处理，以防腐。
- 设备结构简单，易于维护
- 可以添加虚拟盒和对准器机制，从而可以将其用作支持各种工艺的大规模生产工具。
- 提供全面的备份服务，包括回收清洗、部件、维护和培训服务
用途
- 化合物（LED、LD、VCESL、高频器件、通信器件）及功率器件（IGBT布线处理、SiC加工）
- 金属布线、层间绝缘膜（树脂基）、ゲート電極加工工艺
- 铁电材料及贵金属蚀刻
- 磁性体材料加工
