μLED成膜/加工技术

This post is also available in: 日语 英语

介绍μLED工艺所必需的溅射、刻蚀技术。

透明电极膜ITO成膜

当通过溅射形成ITO膜时，在TG表面附近的电场中加速的负离子以高速入射到基板，对基板上的ITO膜造成损伤。LVS是一种降低溅射电压（负离子加速电场）并以低损伤方式形成 ITO 膜的方法。

PSS加工

刻蚀基板表面，形成圆锥形，提高光的反射效率。

 

 

 刻蚀（ITO加工）

 

刻蚀（GaN Mesa加工）

 

刻蚀（GaN Isolation加工）

点击咨询