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ULVAC为功率器件IGBT的制造工艺提供离子注入设备和溅射设备等技术。 功率器件IGBT是Insulated Gate Bipolar Transistor的缩写。
功率器件IGBT工艺流程
1.基板 |
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2.B+注入使用离子注入设备 |
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3.绝缘膜形成通过CVD形成掩膜 |
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4.掩膜用绝缘膜加工通过刻蚀和去胶处理绝缘膜 |
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5.P+注入使用离子注入设备 |
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6.形成沟槽通过刻蚀形成沟槽 |
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7.形成绝缘膜
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8.绝缘膜加工通过刻蚀和去胶处理绝缘膜
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9.形成Emitter电极通过溅射或蒸镀形成电极
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10.形成P+FS层通过离子注入设备形成P+FS层 |
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11.形成B+(Collector)通过离子注入设备形成B+(Collector) |
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12.形成Collector
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ULVAC关键技术
Ion Plantation
・通过向FS层注入磷,提高IGBT性能
・通过向FS层注入氢来降低Cost
Sputtering
・可搬送薄片wafer
・应力调整
Etching
・支持沟槽结构
PE-CVD
・27MHz 驱动的低损伤等离子体
・通过基板Bias控制膜应力
细节