IGBT制造工艺

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ULVAC为功率器件IGBT的制造工艺提供离子注入设备和溅射设备等技术。 功率器件IGBT是Insulated Gate Bipolar Transistor的缩写。

功率器件IGBT工艺流程

1.基板

2.B+注入

使用离子注入设备

3.绝缘膜形成

通过CVD形成掩膜

4.掩膜用绝缘膜加工

通过刻蚀和去胶处理绝缘膜

5.P+注入

使用离子注入设备

6.形成沟槽

通过刻蚀形成沟槽

7.形成绝缘膜

通过CVD形成绝缘膜

8.绝缘膜加工

通过刻蚀和去胶处理绝缘膜

 

9.形成Emitter电极

通过溅射或蒸镀形成电极

 

10.形成P+FS层

通过离子注入设备形成P+FS层

11.形成B+(Collector)

通过离子注入设备形成B+(Collector)

12.形成Collector

通过溅射或蒸镀形成Collector

ULVAC关键技术

Ion Plantation

・通过向FS层注入磷,提高IGBT性能

・通过向FS层注入氢来降低Cost

Sputtering

・可搬送薄片wafer

・应力调整

Etching

・支持沟槽结构

PE-CVD

・27MHz 驱动的低损伤等离子体

・通过基板Bias控制膜应力

 

 

细节