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イオン注入装置

半導体デバイス向け高性能イオン注入装置のシリーズです。

低加速・高濃度対応のイオン注入装置SOPHI-30

SOPHI-30

低加速・高濃度対応のイオン注入装置です。

高エネルギー対応のイオン注入装置SOPHI-400

SOPHI-400

Max2400KeVまで対応可能な高エネルギーのイオン注入装置です。

研究開発用中電流イオン注入装置
IMX-3500

IMX-3500

中電流イオン注入装置IMX-3500は、最大エネルギ200kV、ウェーハサイズ8インチまでの、イオン注入装置で、大学等での研究開発に最適です。

SiC用高温イオン注入装置
IH-860DSIC

ih860dsic

高温ESCを搭載したSiC量産用高エネルギーイオン注入装置です。

中電流型イオン注入装置
SOPHI-200/260

sophi-200

中電流型イオン注入装置SOPHI-200/260は、最新技術を搭載した8、6、5インチのイオン注入装置です。サンプリングをお受けしています。

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