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ULHITETM NE-7800H

高密度プラズマドライエッチング装置
ULHITETM NE-7800H

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NE7800

高密度プラズマドライエッチング装置ULHITETM NE-7800HはFeRAM、MRAM、ReRAM、PCRAMなどに用いられる難エッチング材料(強誘電体、貴金属、磁性膜等)のエッチングに対応したマルチチャンバー型の低圧・高密度プラズマエッチング装置です。

特長

  • 有磁場ICP(ISM)方式-低圧・高密度プラズマによる不揮発性材料加工専用機
  • 常温から高温(400ºC)対応の積層膜一括エッチング、及びハードマスク除去までのエッチングソリューションを提供。
  • チャンバーから排気ライン、DRPまで均一加熱によるデポ対策。
  • メンテクリーニング費用やパーティクル発生を抑えた構造や材料、加熱機構等、不揮発性材料エッチングに豊富な経験を持つ量産装置。
  • 長期の再現性・安定性を実現。

用途

  • FeRAM, MRAM, ReRAM, CBRAM, PcRAM等.

仕様

項目 仕様
装置構成 カセット室/オートローダー
搬送室
エッチング室
予備加熱室(オプション)
前後処理室(オプション)
処理可能基板サイズ 6・8インチ
膜種 強誘電・高誘電材料、磁性材料、電極材料など
面内均一性 ±5%以下
プラズマソース ISM(有磁場ICP)
基板電極温度 〜400ºC±5ºC
デポジション対策 ファラーデーシールド機構/天板加熱機構/防着板加熱機構等
プロセスレシピ編集方式 マルチステップ方式

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