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エッチング装置

アルバックのエッチング装置は、新型不揮発性メモリーから化合物半導体の難エッチング材料におけるエッチングまで、あらゆるニーズに対応します。

実験用小型エッチング装置
CE-L

s-CE-L

小型エッチング装置CE-Lは、「大気カセット」、「1枚仕込み大気搬送」、「真空搬送」等の自由な組み合わせが可能です。タッチパネル操作により基板搬送、真空排気、エッチング処理の自動制御が可能で機電一体型のコンパクト設計を実現しています。

研究開発向け 高密度プラズマエッチング装置
NE-550EX

NE-550H

研究開発向け高密度プラズマエッチング装置NE-550EXは、有磁場ICP(ISM=Inductively Super Magnetron)方式の高密度プラズマエッチング装置、枚葉式でLL室を標準装備し、コンパクト・低価格を実現しました。

ドライエッチング装置
APIOS NE-950EX

s-NE-950EX

LED向け量産専用ドライエッチング装置「NE-950EX」は、当社従来比140%の生産性を実現。ICP高密度プラズマ源やアルバック独自のスター電極搭載したドライエッチング装置です。

量産用ドライエッチング装置
NE-5700/NE-7800

ne7800h

量産用ドライエッチング装置NE-5700/NE-7800は、1チャンバーからマルチチャンバーに対応し、コストパフォーマンスを重視した拡張性あるエッチング装置です。

研究開発向けNLDドライエッチング装置
NLD-570

NLD570

研究開発向けNLDドライエッチングNLD-570は、アルバックが独自に開発した磁気中性線プラズマ(NLD)による低圧・低電子温度・高密度プラズマを搭載したドライエッチング装置です。

オプトデバイス、MEMS向け ドライエッチング装置
NLD-5700

nld5700

オプトデバイス、MEMS向けドライエッチング装置NLD-5700は、磁気中性線プラズマ(NLD)源を搭載した量産用ドライエッチング装置です。 (アルバックが独自に開発した磁気中性線プラズマ(NLD)による低圧・低電子温度・高密度プラズマを搭載したドライエッチング装置。)

バッチ式自然酸化膜除去装置
RISETM-300

rise300

バッチ式自然酸化膜除去装置RISETM-300は、LSIのDeep-contact底部など困難な自然酸化膜除去に対応するバッチ式プリクリーン装置です。対象ウェーハ200mm、300mmをラインアップしています。

高密度プラズマドライエッチング装置
ULHITETM NE-7800H

NE7800

高密度プラズマドライエッチング装置ULHITETM NE-7800HはFeRAM、MRAM、ReRAM、PCRAMなどに用いられる難エッチング材料(強誘電体、貴金属、磁性膜等)のエッチングに対応したマルチチャンバー型の低圧・高密度プラズマエッチング装置です。

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