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CVD装置

a-Si成膜や不動態膜成膜に不可欠なPE-CVD装置から、メタルCVD、熱CVD装置まで、枚葉式、バッチ式あるいは開発用特型をラインアップしています。

ETP-CVD装置
ULGLAZE シリーズ

ULGLAZE

ULGLAZEシリーズは、モノマーとO2を使ってポリカーボネート上に耐傷付き性、耐摩耗性成膜を行うエキスパンディング サーマル プラズマCVD装置です。

縦型プラズマCVD装置
CCV シリーズ

CCV

CCVシリーズはa-Si成膜用縦型CVD装置です。30年以上の量産実績を持っています。個別のチャンバーで低デポレートに成膜することで高品質な膜質が得られます。

枚葉式プラズマCVD装置
CMD シリーズ

cmd

CMDシリーズはSiH4やTEOSを用いたa-Si膜、シリコン酸化膜、窒化膜成膜用枚葉式CVD装置です。

カーボンナノチューブ成長実験装置
CN-CVD-400

cncvd400_800

アルバックは、基板上にカーボンナノチューブ(以下ナノチューブとする)を垂直、かつ選択的に成長させる技術を世界で初めて開発しました。この技術は、マイクロ波プラズマCVD技術を利用したもので、ナノチューブを高純度で大量生産することが可能となり、電池・水素貯蔵などの多くの分野で画期的な性能向上が期待できます。

枚葉式PE-CVD装置
CME-200E/400

cme200e

枚葉式PE-CVD装置 CME-200E/400は、シリコン系の絶縁膜・バリア膜等の成膜に最適な、量産用PE-CVD装置です。

ロードロック式プラズマCVD装置
CC-200/400

cc200400

ロードロック式プラズマCVD装置CC-200/400は、小型で使いやすく、研究開発から生産までに対応した装置です。

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