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CV-200

ロードロック式蒸着装置
CV-200

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cv200

ロードロック式蒸着装置CV-200は基板仕込室・成膜室の2 室からなるロードロック式蒸着装置です。ロードロック式の採用により、常にクリーンな環境でのプロセスが可能で、膜の再現性に優れています。研究開発から小規模生産用まで、幅広く対応しています。

特長

  • ロードロック式で高真空プロセスに対応
  • 多様な基板サイズに対応
  • ホルダー搬送対応
  • リフトオフ成膜対応(標準でφ4インチ。オプションでφ6インチまで対応)
  • 多様な蒸発源を搭載可能(EB、抵抗、他)
  • 高温加熱対応、最高450℃
  • 真空ボックスによりCシリーズ間で間接連続プロセス可能(CV, CC, CS, CP)
    (スパッタ:CS-200・P-CVD:CC-200・蒸着重合:CP-200)

用途

  • パワーデバイス
  • LED・LD、高速デバイス等の化合物関連
  • 有機EL材料開発
  • 液晶配向光膜などの酸化物成膜

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