ロードロック式蒸着装置
CV-200
ロードロック式蒸着装置CV-200は基板仕込室・成膜室の2 室からなるロードロック式蒸着装置です。ロードロック式の採用により、常にクリーンな環境でのプロセスが可能で、膜の再現性に優れています。研究開発から小規模生産用まで、幅広く対応しています。
- ロードロック式で高真空プロセスに対応
- 多様な基板サイズに対応
- ホルダー搬送対応
- リフトオフ成膜対応(標準でφ4インチ。オプションでφ6インチまで対応)
- 多様な蒸発源を搭載可能(EB、抵抗、他)
- 高温加熱対応、最高450℃
- 真空ボックスによりCシリーズ間で間接連続プロセス可能(CV, CC, CS, CP)
(スパッタ:CS-200・P-CVD:CC-200・蒸着重合:CP-200)
- パワーデバイス
- LED・LD、高速デバイス等の化合物関連
- 有機EL材料開発
- 液晶配向光膜などの酸化物成膜