Top > 装置 > バッチ式高真空蒸着装置
eiシリーズ

バッチ式高真空蒸着装置
eiシリーズ

For more Information

ei

バッチ式高真空蒸着装置eiシリーズは、基板上に金属や酸化物を成膜するための装置です。操作パネルから集中的制御で排気操作・成膜操作を自動で行うことができるため、研究開発および少量生産に適しています。

特長

  • 多様な蒸発源を搭載可能(EB、抵抗、EB+抵抗)
  • プロセスに応じた基板ホルダ(リフトオフ、プラネタリ、サテライトetc.)
  • φ2 in〜 6 in基板、矩形基板、Si、化合物、ガラス、セラミック各種基板対応
  • 液晶タッチパネル上での集中表示・操作
  • PCによる優れた操作性・機能(レシピ機能・データロギング・メンテナンスアシスト機能)

用途

  • パワーデバイス等の化合物関連
  • LED、LD、高速デバイス
  • 各種実験用
  • その他電子部品全般

For more Information