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太陽電池

化合物薄膜(CIGS他)、結晶系太陽電池、さらには最先端の有機太陽電池製造技術を提供します。

薄膜系太陽電池

スパッタリング

巻取式スパッタリング装置
SPW シリーズ

SPW165

SPWシリーズは、プラスチックフィルム上に、光学膜やメタル等の多層成膜をすることが出来る巻取式スパッタリング装置です。成膜室間で雰囲気分離を施し、高機能多層膜を一括成膜可能です。

横型インライン式スパッタリング装置
SCH シリーズ

SCH

SCHシリーズは透明導電膜や金属膜等を成膜する横型インライン式スパッタリング装置です。太陽電池生産ラインの裏面電極膜、絶縁膜等の各種成膜プロセスに対応しています。

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CVD

縦型プラズマCVD装置
CCV シリーズ

CCV

CCVシリーズはa-Si成膜用縦型CVD装置です。30年以上の量産実績を持っています。個別のチャンバーで低デポレートに成膜することで高品質な膜質が得られます。

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その他

TCOレーザースクライブ装置
ULT-1400

ULT

本装置はガラス基板上に成膜された透明電極(TCO)膜を近赤外パルスレーザアブレーション法により除去する枚用式レーザスクライブ装置です。本装置は6式のIRレーザ発振器および光学系、ブリッジ式のXYステージ(X軸:下軸、Y軸:上軸)、基板搬送機構、集塵機、レーザ光測定機構および制御系から構成されます。ファイバーレーザおよびグラナイト製のステージを採用し、高精度で高い安定性を実現します。

バッチ式ドライエッチング装置
ULDEX-1600

ULDEX

ULDEX-1600は太陽電池シリコン基板で、エッチングガスを導入し高周波パワーにて表面凸凹構造を形成するプロセスを提供する装置です。シリコン基板表面に低反射となる凸凹構造を形成することにより、太陽電池セルの光吸収を向上させ、セル変換効率の向上に寄与することができます。

uldex_texturing

 

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蒸着

巻取式真空蒸着装置
EWシリーズ

EWE-060

プラスチックフィルム、紙、金属箔等を連続的に巻取りながら、金属や酸化物等を蒸着する成膜装置です。小型の実験機から大量生産装置まで、又、包装材料、コンデンサ、磁気テープ他、各種用途に対応した機種を取り揃えております。

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結晶系太陽電池

スパッタリング

横型インライン式スパッタリング装置
SCH シリーズ

SCH

SCHシリーズは透明導電膜や金属膜等を成膜する横型インライン式スパッタリング装置です。太陽電池生産ラインの裏面電極膜、絶縁膜等の各種成膜プロセスに対応しています。

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CVD

縦型プラズマCVD装置
CCV シリーズ

CCV

CCVシリーズはa-Si成膜用縦型CVD装置です。30年以上の量産実績を持っています。個別のチャンバーで低デポレートに成膜することで高品質な膜質が得られます。

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化合物系太陽電池/その他

スパッタリング

横型インライン式スパッタリング装置
SCH シリーズ

SCH

SCHシリーズは透明導電膜や金属膜等を成膜する横型インライン式スパッタリング装置です。太陽電池生産ラインの裏面電極膜、絶縁膜等の各種成膜プロセスに対応しています。

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R&D

スパッタリング

バッチ式スパッタリング装置
SV シリーズ

sv

SVシリーズは縦型のバッチ式スパッタリング装置です。 ディスクスタンパ専用のSV-200と基板を多量に処理可能なカルーセル型があります。

バッチ式スパッタリング装置
SX シリーズ

sx-200

バッチ式スパッタリング装置SXシリーズは、各種電子部品等の多目的実験から小・中規模生産まで幅広いニーズに対応可能なスパッタリング装置です。

マルチチャンバ型スパッタリング装置
SME-200シリーズ

WEB用MA11-3104,3105-SME-200八角形2

プロセス室を複数搭載可能(最大3室の200E、最大5室の200J、および最大7室の200)なマルチチャンバ型のスパッタリング装置です。

横型インライン式スパッタリング装置
SCH シリーズ

SCH

SCHシリーズは透明導電膜や金属膜等を成膜する横型インライン式スパッタリング装置です。太陽電池生産ラインの裏面電極膜、絶縁膜等の各種成膜プロセスに対応しています。

ロードロック式 スパッタリング装置
CS-200

CS200

ロードロック式スパッタリング装置CS-200は、研究開発から小規模生産まで対応のロードロック式スパッタリング装置です。

実験用小型スパッタリング装置
CS-L

cs-l

実験用小型スパッタリング装置CS-Lは、「大気カセット」、「1枚仕込み」、「大気搬送」、「真空搬送」、「スパッタ室」の各モジュールの自由な組み合わせが可能です。

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CVD

枚葉式PE-CVD装置
CME-200E/400

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枚葉式PE-CVD装置 CME-200E/400は、シリコン系の絶縁膜・バリア膜等の成膜に最適な、量産用PE-CVD装置です。

ロードロック式プラズマCVD装置
CC-200/400

cc200400

ロードロック式プラズマCVD装置CC-200/400は、小型で使いやすく、研究開発から生産までに対応した装置です。

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蒸着

実験用小型蒸着装置
EX-200

EX_200

実験用小型蒸着装置EX-200は、EBガン及び抵抗加熱蒸発源を用いて、金属膜または酸化膜等を成膜することを目的とした蒸着装置です。

枚葉式蒸着装置
EME-400

eme400

枚葉式蒸着装置EME-400は、六角形コアを搭載した枚葉式ロードロック装置です。各プロセスチャンバーはロボット室を介してゲートバルブで仕切られているため、コンタミフリーでの連続成膜が可能であり、生産に適した装置です。

ロードロック式蒸着装置
CV-200

cv200

ロードロック式蒸着装置CV-200は基板仕込室・成膜室の2 室からなるロードロック式蒸着装置です。ロードロック式の採用により、常にクリーンな環境でのプロセスが可能で、膜の再現性に優れています。研究開発から小規模生産用まで、幅広く対応しています。

バッチ式高真空蒸着装置
eiシリーズ

ei

バッチ式高真空蒸着装置eiシリーズは、基板上に金属や酸化物を成膜するための装置です。操作パネルから集中的制御で排気操作・成膜操作を自動で行うことができるため、研究開発および少量生産に適しています。

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