Top > 装置 > 用途別カテゴリ > 光学膜 >

光学膜

UVカット、IRカット、反射防止膜から防汚膜、光学デバイスに用いられる各種単層膜、多層膜の製造向けに、きめ細かなソリューションを提供します。

エッチング

研究開発向け 高密度プラズマエッチング装置
NE-550EX

NE-550H

研究開発向け高密度プラズマエッチング装置NE-550EXは、有磁場ICP(ISM=Inductively Super Magnetron)方式の高密度プラズマエッチング装置、枚葉式でLL室を標準装備し、コンパクト・低価格を実現しました。

研究開発向けNLDドライエッチング装置
NLD-570

NLD570

研究開発向けNLDドライエッチングNLD-570は、アルバックが独自に開発した磁気中性線プラズマ(NLD)による低圧・低電子温度・高密度プラズマを搭載したドライエッチング装置です。

オプトデバイス、MEMS向け ドライエッチング装置
NLD-5700

nld5700

オプトデバイス、MEMS向けドライエッチング装置NLD-5700は、磁気中性線プラズマ(NLD)源を搭載した量産用ドライエッチング装置です。 (アルバックが独自に開発した磁気中性線プラズマ(NLD)による低圧・低電子温度・高密度プラズマを搭載したドライエッチング装置。)

スパッタリング

バッチ式スパッタリング装置
SV シリーズ

sv

SVシリーズは縦型のバッチ式スパッタリング装置です。 ディスクスタンパ専用のSV-200と基板を多量に処理可能なカルーセル型があります。

光学膜用スパッタリング装置
ULDiS シリーズ

ULDiS-s

光学膜用スパッタリング装置 ULDiSシリーズは、メタモード® の技術を進化させたデジタルスパッタ装置で、より高品位の光学膜を実現します。
米国JDSユニフェーズ社と新たにライセンス契約を締結。
ライセンス契約締結により、JDSユニフェーズ社が特許を取得しているメタモード® スパッタをすべての光学用途で制限なく装置販売いたします。

バッチ式スパッタリング装置
SX シリーズ

sx-200

バッチ式スパッタリング装置SXシリーズは、各種電子部品等の多目的実験から小・中規模生産まで幅広いニーズに対応可能なスパッタリング装置です。

巻取式スパッタリング装置
SPW シリーズ

SPW165

SPWシリーズは、プラスチックフィルム上に、光学膜やメタル等の多層成膜をすることが出来る巻取式スパッタリング装置です。成膜室間で雰囲気分離を施し、高機能多層膜を一括成膜可能です。

裏面・実装用スパッタリング装置
SRH シリーズ

SRH-420

裏面・実装用スパッタリング装置 SRHシリーズは、パワーデバイス、WL-CSP、UBMなどの金属成膜を行うことを目的とした量産用の装置です。

マルチチャンバ型スパッタリング装置
SME-200シリーズ

WEB用MA11-3104,3105-SME-200八角形2

プロセス室を複数搭載可能(最大3室の200E、最大5室の200J、および最大7室の200)なマルチチャンバ型のスパッタリング装置です。

超高真空スパッタリング装置
MPS シリーズ

MPS8000

超高真空スパッタリング装置MPSシリーズは、豊富な経験と実績に基づいて開発されたスパッタリング装置です。従来のスパッタリング放電圧力より約1桁低い、低圧力で放電の維持が可能です。また、ロングスロータイプの採用により良好な膜厚分布を実現できます。

ロードロック式スパッタリング装置
SPH シリーズ

sph_s

車載ミラー、樹脂成型品など小型部品の生産工程の一貫自動化に対応したロードロック式スパッタリング装置です。2ステージ仕様のSPH-320/320M、4ステージ仕様のSPH-340Mをラインナップしております。

ロードロック式 スパッタリング装置
CS-200

CS200

ロードロック式スパッタリング装置CS-200は、研究開発から小規模生産まで対応のロードロック式スパッタリング装置です。

コンパクトスパッタ
ACS-4000

ACS4000-equip

コンパクトスパッタACS-4000は、多層膜や化合物薄膜の研究開発用途として、パソコンによるプロセス自動化と4インチ基板対応を可能にしました。カソードは4台まで同時操作可能です(標準実装は3台)。

実験用小型スパッタリング装置
CS-L

cs-l

実験用小型スパッタリング装置CS-Lは、「大気カセット」、「1枚仕込み」、「大気搬送」、「真空搬送」、「スパッタ室」の各モジュールの自由な組み合わせが可能です。

蒸着

巻取式真空蒸着装置
EWシリーズ

EWE-060

プラスチックフィルム、紙、金属箔等を連続的に巻取りながら、金属や酸化物等を蒸着する成膜装置です。小型の実験機から大量生産装置まで、又、包装材料、コンデンサ、磁気テープ他、各種用途に対応した機種を取り揃えております。

実験用小型蒸着装置
EX-200

EX_200

実験用小型蒸着装置EX-200は、EBガン及び抵抗加熱蒸発源を用いて、金属膜または酸化膜等を成膜することを目的とした蒸着装置です。

枚葉式蒸着装置
EME-400

eme400

枚葉式蒸着装置EME-400は、六角形コアを搭載した枚葉式ロードロック装置です。各プロセスチャンバーはロボット室を介してゲートバルブで仕切られているため、コンタミフリーでの連続成膜が可能であり、生産に適した装置です。

ロードロック式蒸着装置
CV-200

cv200

ロードロック式蒸着装置CV-200は基板仕込室・成膜室の2 室からなるロードロック式蒸着装置です。ロードロック式の採用により、常にクリーンな環境でのプロセスが可能で、膜の再現性に優れています。研究開発から小規模生産用まで、幅広く対応しています。

バッチ式高真空蒸着装置
eiシリーズ

ei

バッチ式高真空蒸着装置eiシリーズは、基板上に金属や酸化物を成膜するための装置です。操作パネルから集中的制御で排気操作・成膜操作を自動で行うことができるため、研究開発および少量生産に適しています。

CVD

枚葉式PE-CVD装置
CME-200E/400

cme200e

枚葉式PE-CVD装置 CME-200E/400は、シリコン系の絶縁膜・バリア膜等の成膜に最適な、量産用PE-CVD装置です。

ロードロック式プラズマCVD装置
CC-200/400

cc200400

ロードロック式プラズマCVD装置CC-200/400は、小型で使いやすく、研究開発から生産までに対応した装置です。