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MEMSデバイス

各種マイクロセンサーから流路モジュール、光スイッチ、バイオMEMSまで、豊富なファウンドリ実績から、あらゆるMEMS製造技術に対応します。

エッチング

実験用小型エッチング装置
CE-L

s-CE-L

小型エッチング装置CE-Lは、「大気カセット」、「1枚仕込み大気搬送」、「真空搬送」等の自由な組み合わせが可能です。タッチパネル操作により基板搬送、真空排気、エッチング処理の自動制御が可能で機電一体型のコンパクト設計を実現しています。

量産用ドライエッチング装置
NE-5700/NE-7800

ne7800h

量産用ドライエッチング装置NE-5700/NE-7800は、1チャンバーからマルチチャンバーに対応し、コストパフォーマンスを重視した拡張性あるエッチング装置です。

研究開発向け 高密度プラズマエッチング装置
NE-550EX

NE-550H

研究開発向け高密度プラズマエッチング装置NE-550EXは、有磁場ICP(ISM=Inductively Super Magnetron)方式の高密度プラズマエッチング装置、枚葉式でLL室を標準装備し、コンパクト・低価格を実現しました。

研究開発向けNLDドライエッチング装置
NLD-570

NLD570

研究開発向けNLDドライエッチングNLD-570は、アルバックが独自に開発した磁気中性線プラズマ(NLD)による低圧・低電子温度・高密度プラズマを搭載したドライエッチング装置です。

オプトデバイス、MEMS向け ドライエッチング装置
NLD-5700

nld5700

オプトデバイス、MEMS向けドライエッチング装置NLD-5700は、磁気中性線プラズマ(NLD)源を搭載した量産用ドライエッチング装置です。 (アルバックが独自に開発した磁気中性線プラズマ(NLD)による低圧・低電子温度・高密度プラズマを搭載したドライエッチング装置。)

アッシング

アッシング装置
Luminous NA シリーズ

NA-1300L full module

Luminous NAシリーズはクリティカルな次世代ウェーハプロセスからウェーハレベル実装工程まで幅広いプロセスに対応可能なウェーハサイズフリーのアッシング装置です。

スパッタリング

マルチチャンバ型スパッタリング装置
MLXTM-3000N

mlx3000n

マルチチャンバ型スパッタリング装置MLXTM-3000Nは、各プロセスニーズにフレキシブルに対応し、ハイコストパフォーマンスを達成した半導体向け成膜装置です。ウェーハサイズは75mm〜200mmまで対応可能です。

バッチ式スパッタリング装置
SX シリーズ

sx-200

バッチ式スパッタリング装置SXシリーズは、各種電子部品等の多目的実験から小・中規模生産まで幅広いニーズに対応可能なスパッタリング装置です。

裏面・実装用スパッタリング装置
SRH シリーズ

SRH-420

裏面・実装用スパッタリング装置 SRHシリーズは、パワーデバイス、WL-CSP、UBMなどの金属成膜を行うことを目的とした量産用の装置です。

マルチチャンバ型スパッタリング装置
SME-200シリーズ

WEB用MA11-3104,3105-SME-200八角形2

プロセス室を複数搭載可能(最大3室の200E、最大5室の200J、および最大7室の200)なマルチチャンバ型のスパッタリング装置です。

ロードロック式 スパッタリング装置
CS-200

CS200

ロードロック式スパッタリング装置CS-200は、研究開発から小規模生産まで対応のロードロック式スパッタリング装置です。

コンパクトスパッタ
ACS-4000

ACS4000-equip

コンパクトスパッタACS-4000は、多層膜や化合物薄膜の研究開発用途として、パソコンによるプロセス自動化と4インチ基板対応を可能にしました。カソードは4台まで同時操作可能です(標準実装は3台)。

実験用小型スパッタリング装置
CS-L

cs-l

実験用小型スパッタリング装置CS-Lは、「大気カセット」、「1枚仕込み」、「大気搬送」、「真空搬送」、「スパッタ室」の各モジュールの自由な組み合わせが可能です。

蒸着

実験用小型蒸着装置
EX-200

EX_200

実験用小型蒸着装置EX-200は、EBガン及び抵抗加熱蒸発源を用いて、金属膜または酸化膜等を成膜することを目的とした蒸着装置です。

ロードロック式蒸着装置
CV-200

cv200

ロードロック式蒸着装置CV-200は基板仕込室・成膜室の2 室からなるロードロック式蒸着装置です。ロードロック式の採用により、常にクリーンな環境でのプロセスが可能で、膜の再現性に優れています。研究開発から小規模生産用まで、幅広く対応しています。

バッチ式高真空蒸着装置
eiシリーズ

ei

バッチ式高真空蒸着装置eiシリーズは、基板上に金属や酸化物を成膜するための装置です。操作パネルから集中的制御で排気操作・成膜操作を自動で行うことができるため、研究開発および少量生産に適しています。

有機材料開発用蒸着装置
Mini-Lab

mini_lab

有機材料開発用蒸着装置Mini-Labは、有機膜、アルカリ金属、金属膜等を成膜することを目的とした材料開発用のロードロック式蒸着装置です。

CVD

カーボンナノチューブ成長実験装置
CN-CVD-400

cncvd400_800

アルバックは、基板上にカーボンナノチューブ(以下ナノチューブとする)を垂直、かつ選択的に成長させる技術を世界で初めて開発しました。この技術は、マイクロ波プラズマCVD技術を利用したもので、ナノチューブを高純度で大量生産することが可能となり、電池・水素貯蔵などの多くの分野で画期的な性能向上が期待できます。

有機・無機複合成膜装置
VEP シリーズ

vep

有機・無機複合成膜装置 VEPシリーズは、蒸着、スパッタリング、プラズマ重合、蒸着重合法などによりさまざまな有機・無機材料を成膜できる装置です。目的に応じた処理室を自由に選択できます。

枚葉式PE-CVD装置
CME-200E/400

cme200e

枚葉式PE-CVD装置 CME-200E/400は、シリコン系の絶縁膜・バリア膜等の成膜に最適な、量産用PE-CVD装置です。

ロードロック式プラズマCVD装置
CC-200/400

cc200400

ロードロック式プラズマCVD装置CC-200/400は、小型で使いやすく、研究開発から生産までに対応した装置です。

開発試作