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磁気デバイス

各種磁気センサーやMRAMなどの不揮発性メモリに使用される最先端の磁性材料加工技術を提供します。

スパッタリング

マルチチャンバ型スパッタリング装置
MagestTM S200

magest

MagestTM S200は、理想的環境(超高真空)下で極薄膜の多層膜およびCoスパッタリング(最大3元/室)による合金の成膜を行うことができるマルチチャンバ型スパッタリング装置です。RF、DC利用でほとんどの材料の成膜が可能です。

超高真空スパッタリング装置
MPS シリーズ

MPS8000

超高真空スパッタリング装置MPSシリーズは、豊富な経験と実績に基づいて開発されたスパッタリング装置です。従来のスパッタリング放電圧力より約1桁低い、低圧力で放電の維持が可能です。また、ロングスロータイプの採用により良好な膜厚分布を実現できます。

蒸着

実験用小型蒸着装置
EX-200

EX_200

実験用小型蒸着装置EX-200は、EBガン及び抵抗加熱蒸発源を用いて、金属膜または酸化膜等を成膜することを目的とした蒸着装置です。

ロードロック式蒸着装置
CV-200

cv200

ロードロック式蒸着装置CV-200は基板仕込室・成膜室の2 室からなるロードロック式蒸着装置です。ロードロック式の採用により、常にクリーンな環境でのプロセスが可能で、膜の再現性に優れています。研究開発から小規模生産用まで、幅広く対応しています。

バッチ式高真空蒸着装置
eiシリーズ

ei

バッチ式高真空蒸着装置eiシリーズは、基板上に金属や酸化物を成膜するための装置です。操作パネルから集中的制御で排気操作・成膜操作を自動で行うことができるため、研究開発および少量生産に適しています。

エッチング

実験用小型エッチング装置
CE-L

s-CE-L

小型エッチング装置CE-Lは、「大気カセット」、「1枚仕込み大気搬送」、「真空搬送」等の自由な組み合わせが可能です。タッチパネル操作により基板搬送、真空排気、エッチング処理の自動制御が可能で機電一体型のコンパクト設計を実現しています。

研究開発向け 高密度プラズマエッチング装置
NE-550EX

NE-550H

研究開発向け高密度プラズマエッチング装置NE-550EXは、有磁場ICP(ISM=Inductively Super Magnetron)方式の高密度プラズマエッチング装置、枚葉式でLL室を標準装備し、コンパクト・低価格を実現しました。

量産用ドライエッチング装置
NE-5700/NE-7800

ne7800h

量産用ドライエッチング装置NE-5700/NE-7800は、1チャンバーからマルチチャンバーに対応し、コストパフォーマンスを重視した拡張性あるエッチング装置です。