Top > 装置 > ロードロック式プラズマCVD装置
CC-200/400

ロードロック式プラズマCVD装置
CC-200/400

For more Information

cc200400

ロードロック式プラズマCVD装置CC-200/400は、小型で使いやすく、研究開発から生産までに対応した装置です。

特長

  • 27.12MHzの高密プラズマプロセス
  • SiH4系:SiO2、SiNx、SiON、a-Si、TEOS系:SiO2膜の対応可能
  • CF4+O2プラズマによるチャンバークリーニング可能
  • 有機EL向けの低温成膜用ヒーター対応可能
  • トレー搬送で多様な基板サイズに対応
  • 真空ボックスによりCシリーズ間での間接連続プロセス可能 (Sputter: CS-200, Evaporation: CV-200).

用途

  • パワーデバイス
  • LED、LD、高速デバイス等の化合物関連
  • 有機EL開発
  • 太陽電池開発
  • MEMS

For more Information