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LEDデバイス

高輝度、低消費電力なLEDデバイスは、次世代ディスプレイ・照明分野で活躍しています。アルバックの製造技術は、LEDデバイスの製造に貢献しています。

エッチング

実験用小型エッチング装置
CE-L

s-CE-L

小型エッチング装置CE-Lは、「大気カセット」、「1枚仕込み大気搬送」、「真空搬送」等の自由な組み合わせが可能です。タッチパネル操作により基板搬送、真空排気、エッチング処理の自動制御が可能で機電一体型のコンパクト設計を実現しています。

研究開発向け 高密度プラズマエッチング装置
NE-550EX

NE-550H

研究開発向け高密度プラズマエッチング装置NE-550EXは、有磁場ICP(ISM=Inductively Super Magnetron)方式の高密度プラズマエッチング装置、枚葉式でLL室を標準装備し、コンパクト・低価格を実現しました。

ドライエッチング装置
APIOS NE-950EX

s-NE-950EX

LED向け量産専用ドライエッチング装置「NE-950EX」は、当社従来比140%の生産性を実現。ICP高密度プラズマ源やアルバック独自のスター電極搭載したドライエッチング装置です。

量産用ドライエッチング装置
NE-5700/NE-7800

ne7800h

量産用ドライエッチング装置NE-5700/NE-7800は、1チャンバーからマルチチャンバーに対応し、コストパフォーマンスを重視した拡張性あるエッチング装置です。

アッシング

アッシング装置
Luminous NA シリーズ

3FPDLuminousNA1300

Luminous NAシリーズはクリティカルな次世代ウェーハプロセスからウェーハレベル実装工程まで幅広いプロセスに対応可能なウェーハサイズフリーのアッシング装置です。

スパッタリング

バッチ式スパッタリング装置
SV シリーズ

sv

SVシリーズは縦型のバッチ式スパッタリング装置です。 ディスクスタンパ専用のSV-200と基板を多量に処理可能なカルーセル型があります。

光学膜用スパッタリング装置
ULDiS シリーズ

ULDiS-s

光学膜用スパッタリング装置 ULDiSシリーズは、メタモード® の技術を進化させたデジタルスパッタ装置で、より高品位の光学膜を実現します。
米国JDSユニフェーズ社と新たにライセンス契約を締結。
ライセンス契約締結により、JDSユニフェーズ社が特許を取得しているメタモード® スパッタをすべての光学用途で制限なく装置販売いたします。

バッチ式スパッタリング装置
SX シリーズ

sx-200

バッチ式スパッタリング装置SXシリーズは、各種電子部品等の多目的実験から小・中規模生産まで幅広いニーズに対応可能なスパッタリング装置です。

マルチチャンバ型スパッタリング装置
SME-200シリーズ

WEB用MA11-3104,3105-SME-200八角形2

プロセス室を複数搭載可能(最大3室の200E、最大5室の200J、および最大7室の200)なマルチチャンバ型のスパッタリング装置です。

ロードロック式 スパッタリング装置
CS-200

CS200

ロードロック式スパッタリング装置CS-200は、研究開発から小規模生産まで対応のロードロック式スパッタリング装置です。

コンパクトスパッタ
ACS-4000

ACS4000-equip

コンパクトスパッタACS-4000は、多層膜や化合物薄膜の研究開発用途として、パソコンによるプロセス自動化と4インチ基板対応を可能にしました。カソードは4台まで同時操作可能です(標準実装は3台)。

実験用小型スパッタリング装置
CS-L

cs-l

実験用小型スパッタリング装置CS-Lは、「大気カセット」、「1枚仕込み」、「大気搬送」、「真空搬送」、「スパッタ室」の各モジュールの自由な組み合わせが可能です。

蒸着

実験用小型蒸着装置
EX-200

EX_200

実験用小型蒸着装置EX-200は、EBガン及び抵抗加熱蒸発源を用いて、金属膜または酸化膜等を成膜することを目的とした蒸着装置です。

ロードロック式蒸着装置
CV-200

cv200

ロードロック式蒸着装置CV-200は基板仕込室・成膜室の2 室からなるロードロック式蒸着装置です。ロードロック式の採用により、常にクリーンな環境でのプロセスが可能で、膜の再現性に優れています。研究開発から小規模生産用まで、幅広く対応しています。

バッチ式高真空蒸着装置
eiシリーズ

ei

バッチ式高真空蒸着装置eiシリーズは、基板上に金属や酸化物を成膜するための装置です。操作パネルから集中的制御で排気操作・成膜操作を自動で行うことができるため、研究開発および少量生産に適しています。

PE-CVD

ロードロック式プラズマCVD装置
CC-200/400

cc200400

ロードロック式プラズマCVD装置CC-200/400は、小型で使いやすく、研究開発から生産までに対応した装置です。