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CME-200E/400

枚葉式PE-CVD装置
CME-200E/400

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cme200e

枚葉式PE-CVD装置 CME-200E/400は、シリコン系の絶縁膜・バリア膜等の成膜に最適な、量産用PE-CVD装置です。

特長

  • 27.12MHzの高密度プラズマプロセス
  • SiH4系:SiO2、SiNx、SiON、a-Si、TEOS系:SiO2膜の対応可能
  • NF3+Arプラズマによるチャンバークリーニング可能
  • 有機EL向けに低温成膜用ヒーター搭載可能
  • トレー搬送で、最大□200mmまで(CME-200E)の基板サイズに対応(CME-400:300×400に対応)

用途

  • パワーデバイス
  • LED、LD、高速デバイス
  • 有機EL
  • 太陽電池
  • MEMS

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