光学式プロセスモニタ「Optius」を販売開始
-多様なプラズマプロセスへ対応-

2013年11月1日 株式会社アルバック
 株式会社アルバック(本社 神奈川県茅ヶ崎市、社長 小日向久治、以下アルバック)は、このほど、さまざまなプラズマプロセスに使用できる光学式プロセスモニタ「Optius」(オプティウス)を2013年11月6日より販売開始しますので発表いたします。

【背景】

 半導体やフラットパネルディスプレイ、太陽電池などの製造装置にはスパッタリングやCVD、エッチングなどプラズマプロセスを利用したものが数多くあります。高品質で安定した成膜、エッチングを行なうためには、プラズマの発光スペクトルを正確に監視し、装置を適正な状態に制御する必要があります。近年は品質管理の観点から、その重要性が認識され需要が高まってきています。

【概要】

 光学式プロセスモニタ「Optius」は、当社のスパッタリング装置やエッチング装置など豊富な経験や実績をもとに開発されました。反応性スパッタリングでの遷移モード制御をはじめ、エッチングでのエンドポイント判定、CVDでのクリーニング初期化確認、プロセス中の不純物監視など多様なプラズマプロセスに対応できる製品となっています。

【特長】

新製品の特長は、次の通りです。

1. 広帯域対応
200〜1000nmの広帯域波長に対応します。複数波長の同時測定も可能です。
2. 5ch同時測定
拡張ユニット(オプション)を追加すれば、最大5chまでの同時測定が可能です。
3. フィードバック制御
測定結果より外部機器をフィードバック制御する事ができます。
反応性スパッタリングでの遷移モード制御(ガス流量の制御)などに有効です。
4. 専用ソフトウェア
反応性スパッタリング、エッチングなど複数のプロセスに対応する専用ソフトウェアを装備しています。また、ユーザにて判別式や演算式を任意に作成・編集することができます。
5. 受光ユニット
受光ユニットは大気タイプと真空タイプの2種類を用意していますので、使用するプロセスにより選択できます。

【製品写真】

optius
光学式プロセスモニタ「Optius」5ch仕様

【販売目標および販売価格】

 光学式プロセスモニタ「Optius」の年間販売目標は、初年度20台、販売価格は230万円〜(受光ユニット含む)、販売開始時期は2013年11月6日を予定しています。

 なお、光学式プロセスモニタ「Optius」は、2013年11月6日(水)〜11月8日(金)に東京ビッグサイトで開催される「真空展2013(Vacuum2013)」のアルバックブース(東6ホールブースNo.B-01)で実機展示を行います。

お問い合せ

アルバック販売株式会社  compo info
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