|
|
登録日 |
特許番号 |
名称 |
|---|---|---|
2008年12月26日 |
特04236245 |
透明導電膜の製造装置及びその製造方法 |
2008年12月19日 |
特04233882 |
蒸着用マスクの製造方法 |
2008年12月19日 |
特04233702 |
カーボンスパッタ装置 |
2008年12月19日 |
特04233644 |
膜厚モニター用水晶振動子 |
2008年12月19日 |
特04233332 |
蒸着装置 |
2008年12月19日 |
特04232889 |
真空溶解鋳造装置 |
2008年12月19日 |
特04232880 |
真空溶解鋳造装置 |
2008年12月19日 |
特04232878 |
注湯装置の制御方法及びその制御装置 |
2008年12月12日 |
特04231715 |
固形有機材料の製造方法、容器付固形有機材料及び有機材料の成膜方法 |
2008年12月12日 |
特04229736 |
同軸型真空アーク蒸着源、それを用いた真空蒸着装置 |
2008年12月5日 |
特04226385 |
プラズマ処理装置 |
2008年12月5日 |
特04226276 |
負電荷酸素イオン発生用真空処理装置 |
2008年12月5日 |
特04226101 |
静電チャックプレート表面からの基板離脱方法 |
2008年11月21日 |
特04218942 |
薄膜製造装置及び薄膜製造方法 |
2008年11月14日 |
特04217413 |
低抵抗透明導電膜及びその製造法 |
2008年11月14日 |
特04216522 |
蒸発源及びこれを用いた薄膜形成装置 |
2008年11月14日 |
特04216410 |
傾斜型ポリイミド被膜形成方法並びに成形用金型及びその作製方法 |
2008年11月14日 |
特04216375 |
二次電子増倍素子を使用した測定方法及び二次電子増倍素子を使用した装置 |
2008年11月7日 |
特04212703 |
多孔質薄膜の製造方法、及び機能性薄膜 |
2008年10月31日 |
特04210205 |
セル及びこれを備えるバイオセンサー装置並びに測定方法 |
2008年10月31日 |
特04210150 |
袋状物または中空体の洩れ検出装置及び洩れ検出方法 |
2008年10月31日 |
特04210141 |
硬質窒化炭素膜の形成方法 |
2008年10月31日 |
特04209981 |
真空蒸着装置における成膜材料供給装置 |
2008年10月24日 |
特04205565 |
薄膜製造方法 |
2008年10月24日 |
特04204831 |
有機LEDパネルの製造方法 |
2008年10月24日 |
特04204695 |
蒸着源、蒸着装置 |
2008年10月24日 |
特04204662 |
イオン注入装置およびイオン注入方法 |
2008年10月17日 |
特04202023 |
搬送トレイ及び熱処理炉 |
2008年10月10日 |
特04199050 |
四重極型質量分析計とそれを有する真空装置 |
2008年10月10日 |
特04197111 |
縦型触媒化学気相成長装置及び該装置を用いた成膜方法 |
2008年10月3日 |
特04194816 |
被処理物の取付ユニット |
2008年9月19日 |
特04187321 |
ガス分析方法 |
2008年9月19日 |
特04187142 |
マスク位置合せ機構付き成膜装置 |
2008年9月12日 |
特04184771 |
アライメント装置、成膜装置 |
2008年9月12日 |
特04184498 |
亜鉛／インジウム系ＢＭ膜、及びＢＭ膜製造方法 |
2008年9月5日 |
特04180942 |
薄膜製造方法及び薄膜製造方法 |
2008年9月5日 |
特04180941 |
薄膜製造装置及び薄膜製造方法 |
2008年9月5日 |
特04180551 |
凍結真空乾燥装置および凍結真空乾燥方法 |
2008年9月5日 |
特04180265 |
真空排気装置の運転方法 |
2008年9月5日 |
特04180189 |
プラズマディスプレイ装置製造方法、及びリアパネル |
2008年9月5日 |
特04180128 |
磁気浮上搬送装置 |
2008年8月29日 |
特04176988 |
Ａｇ系の成膜方法 |
2008年8月29日 |
特04175815 |
薄膜形成装置 |
2008年8月15日 |
特04171590 |
エッチング方法 |
2008年8月15日 |
特04170692 |
カーボンナノチューブ成膜装置 |
2008年8月15日 |
特04170639 |
低抵抗透明伝導膜の製造方法 |
2008年8月15日 |
特04169892 |
ゲートバルブ |
2008年8月15日 |
特04169849 |
真空蒸着装置における成膜材料の脱ガス方法 |
2008年8月15日 |
特04169839 |
真空処理装置、及び真空処理方法 |
2008年8月8日 |
特04167780 |
原子吸光式レートモニター |
2008年8月8日 |
特04166449 |
真空処理装置 |
2008年8月8日 |
特04166379 |
基板搬送装置 |
2008年8月1日 |
特04163242 |
基板貼り合せ装置及び基板貼り合せ方法 |
2008年8月1日 |
特04162985 |
真空処理システム |
2008年8月1日 |
特04162792 |
イオン照射装置 |
2008年8月1日 |
特04162764 |
仕込取出室、及びその仕込取出室を有する真空処理装置 |
2008年7月25日 |
特04160104 |
アッシング装置 |
2008年7月25日 |
特04159216 |
静電吸着装置、真空処理装置、及び静電吸着方法 |
2008年7月18日 |
特04157836 |
ガスクラスターイオンビーム装置 |
2008年7月18日 |
特04157626 |
真空蒸着用材料の放出ガス低減方法 |
2008年7月18日 |
特04157621 |
スパッタリング成膜装置 |
2008年7月18日 |
特04157616 |
鋳造装置 |
2008年7月18日 |
特04157040 |
混合器、薄膜製造装置及び薄膜製造方法 |
2008年7月18日 |
特04156891 |
薄膜形成装置 |
2008年7月18日 |
特04156885 |
薄膜形成装置 |
2008年7月18日 |
特04156287 |
スパッタイオンポンプの製造方法 |
2008年7月18日 |
特04155821 |
導電性金属ペースト及びその製造方法 |
2008年7月11日 |
特04153768 |
スパッタリング装置 |
2008年7月11日 |
特04153713 |
蒸発源及びこれを用いた薄膜形成装置 |
2008年7月11日 |
特04153333 |
酸化物薄膜の製造方法 |
2008年7月11日 |
特04153296 |
基板処理装置 |
2008年7月4日 |
特04150213 |
可視光応答型酸化チタン及びその作製方法 |
2008年7月4日 |
特04149771 |
積層型有機薄膜の製造方法 |
2008年7月4日 |
特04149595 |
原料ガス供給装置 |
2008年7月4日 |
特04149565 |
高純度薄膜形成用同軸型真空アーク蒸着源 |
2008年7月4日 |
特04149249 |
イオン注入方法、イオン注入装置及びイオン注入装置用ビーム輸送管 |
2008年6月27日 |
特04144795 |
低誘電率層間絶縁膜のドライエッチング方法 |
2008年6月20日 |
特04142783 |
真空装置用アルミニウム合金及びその製造方法 |
2008年6月20日 |
特04142765 |
昇華性金属化合物薄膜形成用イオンプレーティング装置 |
2008年6月13日 |
特04139293 |
スパッタイオンポンプ起因の電流防止方法 |
2008年6月13 |
特04139205 |
有機ＥＬ素子製造装置の洗浄方法および有機ＥＬ素子の製造方法 |
2008年6月13 |
特04139204 |
有機ＥＬ素子の製造方法および有機ＥＬ素子製造装置の洗浄方法 |
2008年6月13日 |
特04138971 |
プラスチック製基材の表面処理法および被覆プラスチック物品 |
2008年6月13日 |
特04138946 |
イオン注入装置 |
2008年6月13日 |
特04138938 |
多層膜形成用スパッタ装置及びその使用方法 |
2008年6月13日 |
特04137277 |
スパッタリング装置 |
2008年6月6日 |
特04133296 |
蒸着源及び蒸着装置 |
2008年6月6日 |
特04132898 |
ドライクリーニング方法 |
2008年6月6日 |
特04130968 |
漏洩検知装置 |
2008年5月16日 |
特04124838 |
圧媒ガスの供給装置 |
2008年5月16日 |
特04124437 |
イオン注入装置およびイオン注入方法 |
2008年5月16日 |
特04123806 |
磁気記録媒体、その製造方法および磁気記録装置 |
2008年5月9日 |
特04122011 |
ダイヤモンド状炭素膜の形成方法 |
2008年5月2日 |
特04119708 |
液晶用配向制御膜並びにこれを用いた液晶配向方法及び液晶表示装置 |
2008年5月2日 |
特04119330 |
シャワーヘッド及び成膜装置 |
2008年5月2日 |
特04118592 |
ロードポート及び半導体製造装置 |
2008年5月2日 |
特04118588 |
金属薄帯鋳造装置 |
2008年4月25日 |
特04114770 |
酸素イオン発生用真空処理装置 |
2008年4月18日 |
特04112956 |
グローブボックス装置 |
2008年4月18日 |
特04112702 |
成膜装置 |
2008年4月18日 |
特04112385 |
Ａｇ合金系反射膜、ＬＣＤ用反射体、反射膜形成用超微粒子分散液、分散液製造方法、及び反射膜形成方法 |
2008年4月11日 |
特04108856 |
表面分析装置、及び表面分析方法 |
2008年4月11日 |
特04106447 |
導電性金ペーストを用いた無電解金メッキ代替導電性金被膜の形成方法 |
2008年4月4日 |
特04106237 |
基板上の堆積膜の剥離方法 |
2008年3月28日 |
特04101017 |
吸着装置及び真空処理装置 |
2008年3月21日 |
特04098326 |
バリア膜形成方法 |
2008年3月21日 |
特04098283 |
スパッタリング装置 |
2008年3月21日 |
特04098005 |
光触媒および光触媒材料 |
2008年3月21日 |
特04097747 |
バリア膜形成方法 |
2008年3月14日 |
特04094127 |
アモルファスシリコン薄膜製造方法 |
2008年3月7日 |
特04091288 |
真空処理装置及び処理対象物の処理方法 |
2008年3月7日 |
特04088823 |
負電荷酸素イオン発生用真空処理装置 |
2008年3月7日 |
特04088822 |
縦型スパッタリングカソード開閉装置 |
2008年2月29日 |
特04087234 |
プラズマ処理装置 |
2008年2月29日 |
特04087233 |
プラズマ処理装置 |
2008年2月29日 |
特04086964 |
補助アノード電極を有する同軸型真空アーク蒸着源 |
2008年2月22日 |
特04083621 |
振動子を用いた分析方法 |
2008年2月22日 |
特04082628 |
成膜用ホロー陰極装置 |
2008年2月8日 |
特04077939 |
反応性イオンエッチング方法及び装置 |
2008年2月8日 |
特04076799 |
ＴｉＯｘの成膜方法及びその装置 |
2008年2月8日 |
特04076260 |
搬送状態検出方法、搬送状態検出装置、及び真空処理装置 |
2008年2月8日 |
特04076245 |
低比誘電性絶縁膜及びその形成方法並びに層間絶縁膜 |
2008年2月1日 |
特04074704 |
蒸着源及び蒸着装置 |
2008年2月1日 |
特04073657 |
処理方法及び真空処理装置 |
2008年2月1日 |
特04073540 |
撥水性部材とその製造方法 |
2008年2月1日 |
特04072920 |
成膜装置用構成部品およびその洗浄方法 |
2008年1月25日 |
特04071064 |
エッチング方法 |
2008年1月25日 |
特04071047 |
加熱冷却装置、真空処理装置 |
2008年1月25日 |
特04071020 |
光触媒層形成方法 |
2008年1月25日 |
特04071016 |
金属薄帯鋳造装置 |
2008年1月25日 |
特04070871 |
銅薄膜形成方法 |
2008年1月18日 |
特04068884 |
プラズマディスプレイおよびその製造方法 |
2008年1月18日 |
特04068883 |
導電膜配線の形成方法、膜構造体の製造方法、電気光学装置の製造方法、及び電子機器の製造方法 |
2008年1月18日 |
特04067357 |
エッチング方法 |
2008年1月11日 |
特04065725 |
ピアス式電子銃およびこれを備える真空蒸着装置 |
2008年1月11日 |
特04065639 |
パネルヒータ |
2008年1月11日 |
特04063577 |
光触媒被膜を有する複合材料の製造方法 |
2007年
登録日 |
特許番号 |
名称 |
|---|---|---|
2007年12月28 |
特04060098 |
真空処理装置およびゲートバルブ |
2007年12月28日 |
特04059946 |
有機薄膜形成装置及び有機材料の再利用方法 |
2007年12月21日 |
特04057896 |
異常対応型ヘリウムリークディテクタ |
2007年12月7日 |
特04050113 |
エッチング方法 |
2007年12月7日 |
特04049891 |
トランスを用いてトリガ放電を発生させる蒸着装置 |
2007年11月30日 |
特04046424 |
基板載置装置、及び真空処理装置 |
2007年11月30日 |
特04046275 |
マイクロイオンビーム形成装置 |
2007年11月30日 |
特04045362 |
多段式容積移送型ドライ真空ポンプ |
2007年11月16日 |
特04039981 |
電子放出型表示装置の製造方法 |
2007年11月2日 |
特04035011 |
触媒ＣＶＤ用触媒線 |
2007年11月2日 |
特04034979 |
光学膜厚制御方法及び光学膜厚制御装置並びに該光学膜厚制御方法を用いて作製した誘電体薄膜 |
2007年11月2日 |
特04034968 |
絶縁基板上に導電パターンを形成する方法 |
2007年11月2日 |
特04034561 |
発光装置の製造方法 |
2007年10月26日 |
特04030361 |
静電吸着装置及びこれを用いた真空処理装置 |
2007年10月26日 |
特04030360 |
静電吸着装置及びこれを用いた真空処理装置 |
2007年10月26日 |
特04030350 |
分割型静電吸着装置 |
2007年10月26日 |
特04030302 |
真空処理装置 |
2007年10月19日 |
特04028723 |
電子付着質量分析法を利用した昇温脱離ガス分析装置及び分析方法 |
2007年10月19日 |
特04028063 |
磁界印加機構及びその配置方法 |
2007年10月19日 |
特04026789 |
イオン注入方法 |
2007年10月12日 |
特04024613 |
吸着装置、真空処理装置及び吸着方法 |
2007年10月12日 |
特04023562 |
連続式熱処理炉 |
2007年10月5日 |
特04022138 |
バイオセンサ用セル |
2007年10月5日 |
特04021202 |
光触媒膜の形成方法 |
2007年9月28日 |
特04017796 |
プラズマ処理装置 |
2007年9月28日 |
特04017747 |
ＢＭ膜製造方法 |
2007年9月28日 |
特04017268 |
コーティング方法 |
2007年9月21日 |
特04014059 |
枚葉式真空処理装置 |
2007年9月14日 |
特04010639 |
往復動式真空ポンプ |
2007年9月7日 |
特04009366 |
大型マスク形成用の磁気中性線放電プラズマ処理装置 |
2007年9月7日 |
特04009221 |
振動子を用いた分析方法 |
2007年9月7日 |
特04009034 |
バリア膜製造方法 |
2007年9月7日 |
特04009013 |
イオン電流検出装置、及びイオン注入装置 |
2007年9月7日 |
特04009009 |
吸着状態判断方法 |
2007年9月7日 |
特04009006 |
ホットプレート |
2007年9月7日 |
特04008123 |
炭素系超微細冷陰極及びその作製方法 |
2007年9月7日 |
特04008083 |
レーザー加熱蒸発法を用いた微小膜形成方法及び形成装置 |
2007年9月7日 |
特04008080 |
差動排気型クライオポンプ |
2007年9月7日 |
特04007431 |
真空処理装置における基板搬送方法 |
2007年8月31日 |
特04005232 |
微細凹凸構造観察方法及び微細凹凸構造の被覆装置 |
2007年8月31日 |
特04004777 |
蒸発源 |
2007年8月31日 |
特04004637 |
静電チャック、加熱冷却装置、加熱冷却方法、及び真空処理装置 |
2007年8月31日 |
特04003851 |
薄膜作成装置およびそのプラズマ源 |
2007年8月31日 |
特04003159 |
薄膜の成膜装置及び成膜方法 |
2007年8月24日 |
特04002769 |
蒸発容器とその蒸発容器を有する成膜装置 |
2007年8月24日 |
特04002768 |
成膜装置 |
2007年8月10日 |
特03997004 |
反応性イオンエッチング方法及び装置 |
2007年8月10日 |
特03996502 |
熱板表面のカバー機構及びこの機構を備えた処理装置 |
2007年8月10日 |
特03996011 |
エッチング方法 |
2007年8月3日 |
特03994000 |
薄膜の成膜装置及び成膜方法 |
2007年8月3日 |
特03993930 |
プラズマエッチング装置 |
2007年8月3日 |
特03993821 |
Ｃｕのパターン形成方法 |
2007年8月3日 |
特03992176 |
真空排気方法および真空排気装置 |
2007年7月27日 |
特03989083 |
真空容器 |
2007年7月27日 |
特03988982 |
ＳｉＣＮ薄膜の形成方法 |
2007年7月20日 |
特03986202 |
選択成長方法 |
2007年7月20日 |
特03986178 |
Ａｌ薄膜形成方法 |
2007年7月20日 |
特03985241 |
凍結真空乾燥装置 |
2007年7月13日 |
特03983557 |
誘導結合型プラズマ装置 |
2007年7月13日 |
特03982673 |
真空排気装置の運転方法 |
2007年7月13日 |
特03981788 |
希土類元素含有合金の鋳造装置および製造方法 |
2007年7月6日 |
特03979745 |
成膜装置、薄膜形成方法 |
2007年6月29日 |
特03978082 |
Ｃｕ配線形成方法 |
2007年6月29日 |
特03976555 |
真空着色装置 |
2007年6月29 |
特03976386 |
フッ素ガスを用いた選択ＣＶＤ方法 |
2007年6月24日 |
特03690552 |
金属ペーストの焼成方法 |
2007年6月15日 |
特03971288 |
カーボンナノチューブ成膜装置 |
2007年6月15日 |
特03971192 |
ＣＶＤ装置 |
2007年6月15日 |
特03971081 |
真空処理装置 |
2007年6月8日 |
特03968157 |
磁気中性線放電型プラズマ利用装置 |
2007年6月8日 |
特03968128 |
薄膜抵抗体の成膜方法及び装置 |
2007年6月8日 |
特03966931 |
静電吸着装置，静電吸力着測定方法、記録媒体 |
2007年6月8日 |
特03966370 |
クライオポンプ |
2007年6月1日 |
特03964015 |
配線薄膜製造方法 |
2007年5月25日 |
特03962323 |
膜付着防止用ガスパージ機構及びこの機構を備えた処理装置 |
2007年5月18日 |
特03958259 |
銅薄膜形成方法 |
2007年5月18日 |
特03957812 |
低比誘電性高分子膜の形成方法 |
2007年5月18日 |
特03957811 |
低比誘電性高分子膜の形成方法 |
2007年5月18日 |
特03957810 |
銅薄膜形成方法 |
2007年5月11日 |
特03955340 |
高温高圧ガス処理装置 |
2007年5月11日 |
特03954842 |
疎水性多孔質シリカ材料の製造方法 |
2007年5月11日 |
特03954833 |
バッチ式真空処理装置 |
2007年5月11日 |
特03954430 |
濃度測定方法 |
2007年5月11日 |
特03953505 |
水晶発振式膜厚モニタ用センサヘッドを用いた膜厚のモニタ方法 |
2007年5月11日 |
特03953444 |
薄膜形成装置及び薄膜形成方法 |
2007年5月11日 |
特03953301 |
水晶発振式膜厚モニタ用センサヘッド |
2007年5月11日 |
特03953276 |
グラファイトナノファイバー、電子放出源及びその作製方法、該電子放出源を有する表示素子、並びにリチウムイオン二次電池 |
2007年5月11日 |
特03953244 |
薄膜形成方法 |
2007年5月11日 |
特03953237 |
金属薄膜の形成方法、および金属微粒子分散液の作製方法 |
2007年4月27日 |
特03949434 |
有機ＬＥＤ素子の製造方法 |
2007年4月27日 |
特03949304 |
スパッタリング処理方法と装置 |
2007年4月27日 |
特03949209 |
誘電体膜の成膜方法 |
2007年4月27日 |
特03949205 |
マグネトロンカソードを備えたメタル配線スパッタ装置 |
2007年4月27日 |
特03948601 |
二次冷却可能な真空溶解鋳造装置 |
2007年4月20日 |
特03947059 |
逆拡散式ヘリウムリークディテクタの省電力化のための運転方法 |
2007年4月20日 |
特03945638 |
検査方法及び検査装置 |
2007年4月13日 |
特03942816 |
金属間のロウ付け接合方法 |
2007年4月13日 |
特03942093 |
噴霧式真空凍結乾燥装置 |
2007年4月6日 |
特03940467 |
反応性イオンエッチング装置 |
2007年4月6日 |
特03940465 |
反応性イオンエッチング装置 |
2007年4月6日 |
特03940464 |
反応性イオンエッチング装置 |
2007年4月6日 |
特03939426 |
銅系配線膜の加圧埋込方法 |
2007年4月6日 |
特03938450 |
バリア膜製造方法 |
2007年4月6日 |
特03938437 |
薄膜形成方法 |
2007年4月6日 |
特03938424 |
ダイヤモンド薄膜製造装置 |
2007年3月30日 |
特3935219 |
蒸溜酒廃液の真空濃縮乾燥装置 |
2007年3月16日 |
特3928989 |
ＳｉＣエピタキシャル薄膜作成方法およびＳｉＣエピタキシャル薄膜作成装置 |
2007年3月16日 |
特3928970 |
積層型透明導電膜の製造方法 |
2007年3月9日 |
特3927864 |
大気圧プラズマ処理装置 |
2007年3月9日 |
特3927863 |
大気圧プラズマ処理装置 |
2007年2月23日 |
特3919942 |
静電吸着装置及び真空処理装置 |
2007年2月16日 |
特3917966 |
真空装置及びその部品に使用されるアルミニウム又はアルミニウム合金の表面処理方法、真空装置及びその部品 |
2007年2月16日 |
特3916305 |
配線薄膜製造方法 |
2007年2月16日 |
特3916100 |
微小部分の膜厚測定方法 |
2007年2月9日 |
特3913355 |
被吸着物の処理方法 |
2007年2月9日 |
特3913336 |
分子線エピタキシャル成長装置、及びダイアモンド薄膜形成方法 |
2007年2月2日 |
特3911206 |
分析セル、それを用いた質量分析装置、及び質量分析方法 |
2007年2月2日 |
特3911191 |
分析方法 |
2007年2月2日 |
特3910243 |
プラズマ生成用ホローカソード |
2007年2月2日 |
特3909608 |
真空処理装置 |
2007年1月26日 |
特3906973 |
真空排気装置 |
2007年1月19日 |
特3905366 |
有機ＥＬ表示装置 |
2007年1月19日 |
特3904342 |
凍結真空乾燥装置 |
2007年1月19日 |
特3903446 |
ベローズ・ポンプ |
2007年1月12日 |
特3902547 |
基板処理装置 |
2007年1月12日 |
特3901755 |
磁気記録体 |
2007年1月12日 |
特3901754 |
基板保持装置、スパッタリング装置、基板交換方法、スパッタリング方法 |
2007年1月5日 |
特3899146 |
プラズマ発生装置 |
2007年1月5日 |
特3897908 |
低比誘電性絶縁膜の形成方法、層間絶縁膜及び半導体装置 |
2007年1月5日 |
特3897860 |
密閉品のリークテスト方法 |
2007年1月5日 |
特3897853 |
撥水性窓材の製造方法 |
2006年
登録日 |
特許番号 |
名称 |
|---|---|---|
2006年12月22日 |
特3894405 |
真空熱処理装置 |
2006年12月22日 |
特3894374 |
真空処理装置 |
2006年12月8日 |
特3888649 |
プラズマ生成用ホローカソード |
2006年12月1日 |
特3886219 |
有機EL素子 |
2006年11月24日 |
特3884854 |
反応性イオンエッチング装置 |
2006年11月24日 |
特3883910 |
ワーク処理装置 |
2006年11月17日 |
特3880697 |
マグネトロンプラズマCVD装置 |
2006年11月10日 |
特3878846 |
ディスク型記憶媒体用フィルム基板の巻取り式スパッタリング装置及びこの装置を用いたディスク型記憶媒体用フィルム基板の製造方法 |
2006年11月2日 |
特3875920 |
Cu配線形成方法 |
2006年11月2日 |
特3875919 |
Cu配線形成方法 |
2006年11月2日 |
特3875322 |
真空熱処理炉 |
2006年11月2日 |
特3874823 |
仕込取出室 |
2006年10月27日 |
特3872136 |
真空処理方法 |
2006年10月27日 |
特3871957 |
凍結真空乾燥方法及び凍結真空乾燥装置 |
2006年10月13日 |
特3866132 |
親水性ポリイミド膜の形成方法 |
2006年10月13日 |
特3865841 |
電子ビーム蒸着装置 |
2006年10月13日 |
特3865807 |
有機エレクトロルミネッセンス素子 |
2006年10月13日 |
特3865358 |
有機EL装置の製造方法 |
2006年10月6日 |
特3863988 |
蒸着装置 |
2006年10月6日 |
特3863954 |
成膜対象物の前処理方法 |
2006年10月6日 |
特3863934 |
高分子薄膜の形成方法 |
2006年9月29日 |
特3859782 |
ダイヤモンド冷陰極の気相合成方法及びその製造方法 |
2006年9月15日 |
特3853666 |
熱処理炉 |
2006年9月15日 |
特3853487 |
連続式熱処理炉 |
2006年9月15日 |
特3853449 |
薄膜形成装置 |
2006年9月15日 |
特3852967 |
低圧スパッタリング装置 |
2006年9月8日 |
特3850527 |
静電チャック及びこれを用いた真空処理装置 |
2006年9月8日 |
特3850508 |
プラズマ生成用ホローカソード |
2006年9月8日 |
特3850502 |
ホローカソードおよびこのホローカソードを具備するイオンプレーティング装置 |
2006年9月1日 |
特3847920 |
静電吸着ホットプレート、真空処理装置、及び真空処理方法 |
2006年9月1日 |
特3847871 |
蒸着装置 |
2006年9月1日 |
特3847866 |
スパッタリング装置 |
2006年9月1日 |
特3847863 |
真空装置及びその製造方法 |
2006年9月1日 |
特3847458 |
小型磁場偏向型質量分析管及びその製造方法 |
2006年8月25日 |
特3844608 |
真空成膜装置 |
2006年8月11日 |
特3839758 |
成膜装置及び成膜方法 |
2006年8月11日 |
特3839674 |
有機蒸着装置及び有機薄膜製造方法 |
2006年8月11日 |
特3839673 |
有機蒸着装置 |
2006年8月11日 |
特3839616 |
表面改質方法、有機薄膜製造方法、及び素子基板 |
2006年8月11日 |
特3839587 |
有機薄膜材料用容器、蒸着装置、有機薄膜の製造方法 |
2006年8月4日 |
特3836584 |
ビームを用いた表面状態測定方法及びダストモニター装置 |
2006年8月4日 |
特3836562 |
イオン照射装置 |
2006年7月28日 |
特3833776 |
広帯域電離真空計 |
2006年7月28日 |
特3833275 |
全方向同時蒸着重合装置 |
2006年7月28日 |
特3832934 |
反応性イオンエッチング装置 |
2006年7月21日 |
特3830288 |
真空装置、及びプラズマディスプレイ装置の製造方法 |
2006年7月14日 |
特3827881 |
真空処理装置及び基板起立装置 |
2006年6月30日 |
特3823069 |
磁気中性線放電プラズマ処理装置 |
2006年6月30日 |
特3822481 |
スパッタリング方法 |
2006年6月30日 |
特3821893 |
スパッタリング装置 |
2006年6月23日 |
特3820333 |
放電プラズマ処理装置 |
2006年6月16日 |
特3817123 |
CVD装置 |
2006年6月16日 |
特3817054 |
蒸着源用るつぼ、及び蒸着装置 |
2006年6月16日 |
特3817037 |
真空蒸着装置、有機EL素子の形成方法 |
2006年6月16日 |
特3817036 |
有機化合物蒸発用容器、有機蒸着源、及び真空蒸着装置 |
2006年6月2日 |
特3810452 |
マグネトロンスパッタ成膜装置 |
2006年5月26日 |
特3809391 |
薄膜形成装置 |
2006年5月26日 |
特3808148 |
複合スパッタリングカソード、そのカソードを用いたスパッタリング装置 |
2006年5月12日 |
特3803592 |
低抵抗透明導電膜及びその製造法 |
2006年4月21日 |
特3795518 |
巻取式真空蒸着装置及び巻取式真空蒸着方法 |
2006年4月21日 |
特3794816 |
真空熱処理方法 |
2006年4月7日 |
特3789507 |
スパッタリング装置 |
2006年4月7日 |
特3788835 |
有機薄膜製造方法 |
2006年3月24日 |
特3784522 |
膜厚モニター |
2006年3月17日 |
特3782255 |
有機化合物用の蒸着源、及び蒸着装置 |
2006年3月10日 |
特3780204 |
バリアメタル膜又は密着層形成方法及び配線形成方法 |
2006年3月10日 |
特3778296 |
真空装置 |
2006年3月3日 |
特3775909 |
有機薄膜製造方法、及び有機蒸着装置 |
2006年3月3日 |
特3775858 |
成膜装置、成膜方法 |
2006年3月3日 |
特3775851 |
蒸着装置、保護膜製造方法 |
2006年3月3日 |
特3775846 |
移動子、磁気浮上搬送装置、及び搬送軸合わせ方法 |
2006年2月24日 |
特3774525 |
プラズマ中の負イオン測定法及び装置 |
2006年2月24日 |
特3774399 |
デュアルダマシン構造体及びその形成方法、並びに半導体装置及びその製造方法 |
2006年2月24日 |
特3773587 |
有機化合物モノマーの精製方法 |
2006年2月10日 |
特3769341 |
エッチングプラズマにおける基板入射負イオンの分析法及び装置 |
2006年2月10日 |
特3768360 |
イオン源及びそのイオン源を用いた質量分析計 |
2006年1月20日 |
特3761040 |
真空装置用構造材料および真空装置用構造部材 |
2005年
登録日 |
特許番号 |
名称 |
|---|---|---|
2005年12月16日 |
特3752358 |
反応性イオンエッチング装置 |
2005年12月16日 |
特3752257 |
イオンビーム蒸着装置 |
2005年12月2日 |
特3746231 |
ビアボトムの絶縁膜の除去方法及び半導体装置の製造方法 |
2005年12月2日 |
特3745051 |
膜厚測定方法 |
2005年12月2日 |
特3744964 |
成膜装置用構成部品及びその製造方法 |
2005年11月18日 |
特3741842 |
真空蒸着装置、及び薄膜形成方法 |
2005年11月11日 |
特3739478 |
反射防止多層膜とその成膜方法並びにその成膜装置 |
2005年11月11日 |
特3739475 |
磁気浮上搬送装置 |
2005年11月11日 |
特3739474 |
磁気浮上搬送装置 |
2005年11月4日 |
特3736938 |
有機EL素子の製造方法、有機薄膜形成装置 |
2005年11月4日 |
特3736928 |
有機化合物容器、有機蒸発源、及び真空蒸着装置 |
2005年11月4日 |
特3736795 |
エッチング装置 |
2005年10月28日 |
特3734913 |
電離真空計制御装置 |
2005年10月7日 |
特3727693 |
TiN膜製造方法 |
2005年9月16日 |
特3720061 |
薄膜抵抗体の直流スパッタ成膜方法 |
2005年9月16日 |
特3719830 |
金属材料用蒸発源及びこれを用いた真空処理装置 |
2005年9月16日 |
特3719797 |
有機薄膜表面への導電性薄膜形成方法 |
2005年9月9日 |
特3718315 |
イオンビーム照射装置 |
2005年7月22日 |
特3701394 |
ヘリウムリークディテクターによる薄物試験体の漏洩試験方法 |
2005年7月15日 |
特3699747 |
真空蒸着法 |
2005年7月15日 |
特3698680 |
成膜方法 |
2005年7月15日 |
特3698506 |
EL素子、及び有機薄膜表面へのカソード電極膜の形成方法 |
2005年7月1日 |
特3693687 |
蒸溜酒廃液の真空濃縮乾燥槽及び真空濃縮乾燥方法 |
2005年6月24日 |
特3691615 |
有機材料用蒸発源 |
2005年6月24日 |
特3690552 |
金属ペーストの焼成方法 |
2005年6月3日 |
特3683538 |
金属薄帯鋳造装置 |
2005年5月13日 |
特3676919 |
反応性イオンエッチング装置 |
2005年5月13日 |
特3675983 |
ヘリウムリークディテクター |
2005年5月13日 |
特3675958 |
耐湿性絶縁膜の形成方法及び層間絶縁膜の形成方法 |
2005年4月15日 |
特3668535 |
エッチング装置 |
2005年4月8日 |
特3664998 |
真空処理装置 |
2005年4月8日 |
特3664854 |
真空処理装置 |
2005年4月1日 |
特3662293 |
エッチング電極 |
2005年3月25日 |
特3660018 |
真空装置の異常放電消滅装置 |
2005年3月25日 |
特3660016 |
真空装置の異常放電抑制・消滅装置 |
2005年3月25日 |
特3660012 |
真空装置の直流電源 |
2005年3月18日 |
特3657366 |
漏洩探知方法 |
2005年3月18日 |
特3657359 |
漏洩検知装置 |
2005年3月11日 |
特3655966 |
プラズマ発生装置 |
2005年2月25日 |
特3649836 |
漏洩検知用磁場偏向型質量分析管の分解能向上方法 |
2005年2月25日 |
特3649313 |
カーボン系材料被覆冷陰極の作製方法及び該冷陰極 |
2005年2月18日 |
特3646901 |
プラズマ励起用アンテナ、プラズマ処理装置 |
2005年1月28日 |
特3640724 |
高接触角ポリイミド断熱膜の作製方法 |
2005年1月28日 |
特3640386 |
焦電性高誘電体のエッチング方法及び装置 |
2005年1月28日 |
特3640385 |
焦電性高誘電体のエッチング方法及び装置 |
2005年1月21日 |
特3638678 |
配線孔、及び配線孔製造方法 |
2005年1月7日 |
特3634029 |
真空成膜装置に於ける温度制御方法 |
2004年
登録日 |
特許番号 |
名称 |
|---|---|---|
2004年12月24日 |
特3630920 |
金属ペーストの焼成方法 |
2004年12月17日 |
特3629305 |
マグネトロンスパッタカソード |
2004年12月17日 |
特3628395 |
スパッタカソード |
2004年12月17日 |
特3627838 |
ダイヤモンド被覆冷陰極の作製方法 |
2004年12月10日 |
特3625951 |
ガス封入電子流型電子管 |
2004年12月3日 |
特3623848 |
有機化合物用蒸発源及びこれを用いた蒸着重合装置 |
2004年12月3日 |
特3623292 |
真空蒸着用基板傾斜自公転装置 |
2004年11月12日 |
特3615817 |
有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 |
2004年11月12日 |
特3615801 |
窒化チタン薄膜成膜方法 |
2004年10月29日 |
特3611940 |
選択CVD方法、及びCVD装置 |
2004年10月29日 |
特3611671 |
漏洩検知装置用分析管 |
2004年10月22日 |
特3609227 |
蒸着重合装置およびそのクリーニング方法 |
2004年10月15日 |
特3606979 |
枚葉式真空処理装置 |
2004年10月8日 |
特3604528 |
CVD装置クリーニング方法、選択CVD方法、及びCVD装置 |
2004年10月1日 |
特3602917 |
冷陰極電離真空計 |
2004年10月1日 |
特3602861 |
金属ケイ化物膜の形成方法 |
2004年9月24日 |
特3599950 |
金属ペーストの焼成方法 |
2004年9月24日 |
特3599782 |
磁気浮上搬送装置に於けるワーク検出方法と装置 |
2004年9月17日 |
特3597217 |
誘電体膜の成膜方法 |
2004年9月10日 |
特3594692 |
有機焦電圧電体の形成方法 |
2004年8月13日 |
特3585633 |
蒸着重合装置 |
2004年8月13日 |
特3585519 |
スパッタ装置及びスパッタ方法 |
2004年8月13日 |
特3585504 |
多層膜コンデンサーの製造方法 |
2004年8月6日 |
特3583294 |
プラズマ放出装置及びプラズマ処理装置 |
2004年8月6日 |
特3583174 |
直流電源回路装置 |
2004年7月30日 |
特3580967 |
真空計 |
2004年7月30日 |
特3580916 |
基板加熱装置 |
2004年7月9日 |
特3574279 |
超高真空用真空計 |
2004年7月9日 |
特3573218 |
薄膜製造方法 |
2004年6月25日 |
特3568667 |
漏洩検査装置 |
2004年6月18日 |
特3565948 |
プラズマCVD装置 |
2004年6月11日 |
特3563152 |
真空ポンプ |
2004年5月28日 |
特3558655 |
マグネトロンスパッタ装置 |
2004年4月30日 |
特3550457 |
浮遊電位基板入射イオンのエネルギー及び質量の分析法及び装置 |
2004年4月23日 |
特3548584 |
電極箔の製造法 |
2004年4月23日 |
特3548583 |
電極箔 |
2004年4月23日 |
特3548582 |
電極箔 |
2004年4月23日 |
特3547027 |
銅配線製造方法 |
2004年4月16日 |
特3545050 |
スパッタリング装置、及びスパッタリング薄膜生産方法 |
2004年4月2日 |
特3540068 |
粉粒体用イオン照射装置 |
2004年4月2日 |
特3540064 |
ドライ真空ポンプ前段用のトラツプ |
2004年3月19日 |
特3534989 |
成膜装置用構成部品 |
2004年2月27日 |
特3526980 |
真空・ガス雰囲気熱処理炉 |
2004年2月20日 |
特3524243 |
連続式真空熱処理炉 |
2004年2月20日 |
特3524242 |
連続式真空焼結炉 |
2004年1月30日 |
特3516821 |
ラジカルを用いた有機薄膜形成方法、及び有機薄膜形成装置 |
2004年1月30日 |
特3516819 |
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2004年1月30日 |
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イオン浸炭炉、及び搬送治具 |
2004年1月23日 |
特3514488 |
マグネトロンスパッタ方法及び装置 |
2004年1月9日 |
特3510951 |
プラズマ発生装置 |
2004年1月9日 |
特3510434 |
プラズマ処理装置、クリーニング方法 |
2004年1月9日 |
特3510041 |
エッチング装置 |
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