スパッタリングターゲット（ボンディング）

大型液晶用スパッタリングターゲット

・マザーガラスの大型化に対応
・透明電導膜材料であるITO ターゲット
（低パーティクル、超高密度ターゲットの開発及び高い生産性）
・微細結晶粒スプラッシュフリー大型アルミターゲット
・Mo、W、AlCe 大型ターゲット

銅配線用スパッタリングターゲット

・高純度Cu ターゲット（純度4N、5N、6N）
・Ta は高真空中での溶解精製（Electron Beam melt）により純度4N5 を達成
・LTS 法に適した均質な組織を有するターゲット材料
・微細配線に対応した、低パーティクルスパッタリングターゲット

詳しくはこちらのページをご覧ください。

蒸着用蒸発材料

ご用途に応じて数多くの材料を取り揃えております。

・選び抜かれた高純度金属、合金、化学物成膜材料
・放出ガスが少ない真空溶解品
・純金属・合金

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