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| 2001年 2月 5日 | ディスプレイ用ターゲットボンディング工場を台湾に開設 真空冶金株式会社（現：アルバックマテリアル株式会社）／三菱マテリアル株式会社 |
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| 2001年 3月 1日 | 省スペース、低価格を実現した大型液晶パネル用液晶注入・封止一貫装置の販売を開始 日本真空技術株式会社（現：株式会社アルバック） |
| 2001年 3月27日 | 表面分析のアルバック・ファイがナノテクノロジー分野に業務を拡大 アルバック・ファイ株式会社 |
| 2001年 4月25日 | 顧客満足促進に向けた次期設計環境の構築 日本真空技術株式会社（現：株式会社アルバック） |
| 2001年 7月11日 | Cat-CVD法を利用した大型基板成膜装置を開発 株式会社アルバック |
| 2001年 9月 6日 | 室温で強磁性を示す窒化ガリウム(GaN)系半導体の合成”に世界で初めて成功 株式会社アルバック |
| 2001年 9月25日 | 台湾に現地法人を設立 アルバック成膜株式会社 |
| 2001年10月 2日 | 画期的なドライ式真空ポンプ用省電力化アタッチメント新発売 株式会社アルバック |
| 2001年10月10日 | 台湾RiTdisplay社からフルカラー用有機EL大型量産装置受注 株式会社アルバック |
| 2001年11月 6日 | ポリカーボネイト上への光触媒膜作成に成功 株式会社アルバック |
| 2001年11月 6日 | 世界初の12点式、水晶発振式成膜コントローラー用マルチセンサー 『CRTS-12』発売 株式会社アルバック |
| 2001年11月 6日 | 極高真空計 AxTRAN（アクストラン）を販売 株式会社アルバック |
| 2001年11月15日 | 有機EL用透明導電膜の開発 株式会社アルバック |
| 2001年11月29日 | GaN結晶成長用量産型MOCVD装置の開発に着手 株式会社アルバック |
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