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| 2000年 4月11日 | コダック社、三洋電機、アルバック有機 EL ディスプレイ製造装置技術開発で提携 日本真空技術株式会社（現：株式会社アルバック） |
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| 2000年 6月22日 | 真空冶金（株）新社長に井街 元就任のご案内 真空冶金株式会社（現：アルバックマテリアル株式会社） |
| 2000年 8月30日 | ハニカム構造を有した超低誘電率（1.5）シリカ材料を開発 日本真空技術株式会社（現：株式会社アルバック） |
| 2000年 9月19日 | 高度専門業務契約社員制度を新たに設定 日本真空技術株式会社（現：株式会社アルバック） |
| 2000年10月 3日 | 半導体・電子関連真空装置にオペレーティングリースを提供 日本真空技術株式会社（現：株式会社アルバック） |
| 2000年10月26日 | 代替フロン系コールドトラップに替わるヘリウム冷凍機を用いた極低温トラップを発売 アルバック・クライオ株式会社 |
| 2000年10月26日 | 高密度実装に対応した導電性銀ペーストを開発 株式会社アルバック・コーポレートセンター |
| 2000年11月27日 | 日本真空技術株式会社（現：株式会社アルバック）、新たにアルバック上海を開設 日本真空技術株式会社（現：株式会社アルバック） |
| 2000年12月 6日 | 半導体技術研究所、本格稼動開始 日本真空技術株式会社（現：株式会社アルバック） |
| 2000年12月 6日 | 日本真空技術が株式会社アルバックに社名変更 日本真空技術株式会社 |
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