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| 1999年 1月20日 | PDP向けにMgO成膜と封着・排気の一貫処理装置の共同開発を開始 日本真空技術株式会社（現：株式会社アルバック）／神港精機株式会社 |
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| 1999年 2月 9日 | アルバックグループ真空技術実務講座(大阪)開催 株式会社アルバック・コーポレートセンター |
| 1999年 2月12日 | アルバック東北株式会社 ISO9001認証を取得 アルバック東北株式会社 |
| 1999年 2月15日 | アルバック九州株式会社(大分事業所)環境ISO14001認証を取得 アルバック九州株式会社 |
| 1999年 2月25日 | PFC測定器で相互営業協力で合意、共同開発も計画 日本真空技術株式会社（現：株式会社アルバック）/株式会社堀場製作所 |
| 1999年 3月19日 | 米国SciVac社とハードディスク製造装置で提携 日本真空技術株式会社（現：株式会社アルバック） |
| 1999年 3月31日 | a-SiTFT用P-CVD装置の販売を開始 日本真空技術株式会社（現：株式会社アルバック） |
| 1999年 4月 7日 | 半導体プロセス用非接触温度モニターの販売と装置搭載を開始 真空理工株式会社（現：アルバック理工株式会社）/日本真空技術株式会社（現：株式会社アルバック） |
| 1999年 4月19日 | 防汚活性用光触媒評価チェッカーの販売を開始 真空理工株式会社（現：アルバック理工株式会社） |
| 1999年 4月26日 | 次世代強誘電体メモリの全面的な共同開発で基本合意 Ramtron International Corp./日本真空技術株式会社（現：株式会社アルバック） |
| 1999年 5月25日 | SiGeエピタキシャル成長用UHV-CVD装置の販売を開始 日本真空技術株式会社（現：株式会社アルバック） |
| 1999年 6月 8日 | 次世代HDD用サスペンション一体型FPCエッチング装置の販売を開始 日本真空技術株式会社（現：株式会社アルバック） |
| 1999年 6月25日 | ISO9001認証を取得 真空冶金株式会社（現：アルバックマテリアル株式会社） |
| 1999年 7月 5日 | 0.1μm以降の微細化対応マルチ・カソード・スパッタリング技術を確立 日本真空技術株式会社（現：株式会社アルバック） |
| 1999年 7月 5日 | Cu配線プロセスに応用できる画期的なWN-CVD技術を開発 日本真空技術株式会社（現：株式会社アルバック） |
| 1999年 7月12日 | 真空機工株式会社（現：アルバック機工株式会社）新社長に小林信司 真空機工株式会社（現：アルバック機工株式会社） |
| 1999年 7月12日 | 韓国半導体製造装置メーカーJUSUNG社と提携 日本真空技術株式会社（現：株式会社アルバック） |
| 1999年 7月21日 | 高速・高集積LSI銅配線技術の共同実証開発を開始 真空冶金株式会社（現：アルバックマテリアル株式会社） |
| 1999年 8月26日 | 放出ガス測定装置・アウトガステスターの販売開始 日本真空技術株式会社（現：株式会社アルバック） |
| 1999年 8月26日 | CVD技術でカーボンナノチュ−ブを基板上に垂直に選択成長 日本真空技術株式会社（現：株式会社アルバック） |
| 1999年 9月 7日 | 省スペース・低価格を実現した次世代大型基板対応液晶パネル製造装置の販売を開始 日本真空技術株式会社（現：株式会社アルバック） |
| 1999年11月10日 | SAWデバイス及び化合物半導体向けに最適なクラスター型スパッタリング装置の販売を開始 日本真空技術株式会社（現：株式会社アルバック） |
| 1999年11月10日 | ウエハレベルCSP及びバンプ電極のバリアメタル膜形成に最適な枚葉式スパッタリング装置の販売を開始 日本真空技術株式会社（現：株式会社アルバック） |
| 1999年11月14日 | 熱分析・熱物性の有料依頼分析評価事業として2000年1月からスタート 真空理工株式会社（現：アルバック理工株式会社） |
| 1999年11月18日 | イオン注入後の急速加熱炉を低価格化 真空理工株式会社（現：アルバック理工株式会社） |
| 1999年11月18日 | 全事業部がISO9001認証を取得完了 日本真空技術株式会社（現：株式会社アルバック） |
| 1999年11月24日 | 銅(Cu)配線用に画期的なスパッタ技術を開発 日本真空技術株式会社（現：株式会社アルバック） |
| 1999年11月24日 | 300mm世代のエコロジー対応新機能イオン注入装置を販売開始 日本真空技術株式会社（現：株式会社アルバック） |
| 1999年11月24日 | 300mmウェーハ対応で省スペース・低価格の多層成膜を実現 日本真空技術株式会社（現：株式会社アルバック） |
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